特許
J-GLOBAL ID：200903087469370708
散乱反射光低減導電膜の形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
光田 敦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-312670
公開番号（公開出願番号）：特開2001-133816
出願日： 1999年11月02日
公開日（公表日）： 2001年05月18日
要約：
【要約】【課題】 簡単で手間がかからず、低コストで、透明導電膜上の散乱光を低減させ、白濁を抑える透明導電膜を提供する。【解決手段】 ガラス基板2上にSnO2膜(透明導電膜)3をCVD法で成膜し、透明導電膜3の表面を研磨加工し、表面上の凹凸6を除去することにより、ガラス基板2上に形成されたSnO2膜3に光が入射した際に生じる散乱反射光を低減し、散乱反射光によりSnO2膜3上に生じる白濁(ヘイズ)を減少させる。
請求項（抜粋）：
基板上に形成された透明導電膜に光が入射した際に生じる散乱反射光を低減する散乱反射光低減導電膜を形成する方法であって、上記基板上に上記透明導電膜を形成し、該透明導電膜の表面を研磨加工し、上記散乱反射光の原因である上記表面上の凹凸を除去することを特徴する散乱反射光低減導電膜の形成方法。
IPC (6件)：
G02F 1/17
, B60R 1/04
, G02F 1/1343
, G02F 1/15 505
, H01B 5/14
, H01B 13/00 503
G02F 1/17
, B60R 1/04 D
, G02F 1/1343
, G02F 1/15 505
, H01B 5/14 A
, H01B 13/00 503 B
