特許

J-GLOBAL ID：200903087473001148

ガスバリア性積層体及びその製造方法

発明者： 今井 伸彦 ,  関口 守
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-398968
公開番号（公開出願番号）：特開2002-254553
出願日： 1996年06月20日
公開日（公表日）： 2002年09月11日
要約：

【要約】【課題】樹脂フィルム基材と金属又は金属化合物の蒸着薄膜であるガスバリア性薄膜とからなるガスバリア性積層体において、樹脂フィルム基材とガスバリア性薄膜との間の密着性を改善し且つ優れたガスバリア性を保持できるようにすることを目的とする。【解決手段】 樹脂フィルム基材上に、物理蒸着法により金属又は金属化合物からなるガスバリア性薄膜が、蒸着合成法によりポリイミド膜が、順次形成されてなることを特徴とするガスバリア性積層体を提供するものである。

請求項（抜粋）：

樹脂フィルム基材上に、物理蒸着法により金属又は金属化合物からなるガスバリア性薄膜が、蒸着合成法によりポリイミド膜が、順次形成されてなることを特徴とするガスバリア性積層体。

IPC (5件)：

B32B 9/00 ,  B32B 15/08 ,  C23C 14/06 ,  C23C 14/20 ,  C23C 16/02

FI (5件)：

B32B 9/00 A ,  B32B 15/08 R ,  C23C 14/06 Q ,  C23C 14/20 A ,  C23C 16/02

Fターム (49件)：

4F100AA02B ,  4F100AA19 ,  4F100AA20 ,  4F100AA33 ,  4F100AB01B ,  4F100AB10 ,  4F100AK01A ,  4F100AK07 ,  4F100AK42 ,  4F100AK49C ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100EH66B ,  4F100EH66C ,  4F100EH662 ,  4F100EJ38 ,  4F100EJ622 ,  4F100GB15 ,  4F100GB23 ,  4F100JB01 ,  4F100JB07 ,  4F100JD02 ,  4F100JD03 ,  4F100JD04 ,  4F100JJ03 ,  4F100JK06 ,  4F100JK07 ,  4F100JL11 ,  4K029AA11 ,  4K029BA01 ,  4K029BA41 ,  4K029BA46 ,  4K029BC00 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029GA03 ,  4K029JA10 ,  4K029KA01 ,  4K030AA09 ,  4K030BA61 ,  4K030BB12 ,  4K030CA07 ,  4K030FA03 ,  4K030GA14 ,  4K030LA11

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 酸化硅素系薄膜積層ガスバリアフィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-024578   出願人：東洋紡績株式会社
• 特許第3766877号
  
• フレキシブル回路基板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-022301   出願人：三井東圧化学株式会社
• 特開昭63-166961
  
• 多層膜の形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-289881   出願人：日本真空技術株式会社