特許
J-GLOBAL ID：200903087499804516

投影露光方法および装置

発明者：
深川 容三

深川 容三 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-171369
公開番号（公開出願番号）：特開2001-006993
出願日： 1999年06月17日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：
【要約】【課題】 ステージ位置計測計の誤差をより高精度に補正する。【解決手段】 原版5に描画されたパターンを結像する投影光学系1と、被露光基板6を搭載してその結像位置に移動させるステージ14と、該ステージの位置制御に用いるステージ位置計測計3と、該投影光学系とステージ位置計測計を保持する本体構造体2と、該本体構造体を支持する支持台23とを備え、前記本体構造体に作用する力の変動量またはこれらに比例する物理量を計測(22)し、該計測結果に基づいて補正係数を求め、該補正係数に基づいて前記ステージ位置計測計と被露光基板表面上の投影画像の相対位置誤差を補正する。
請求項（抜粋）：
原版に描画されたパターンを結像する投影光学系と、被露光基板を搭載してその結像位置に移動させるステージと、該ステージの位置制御に用いるステージ位置計測計と、該投影光学系とステージ位置計測計を保持する本体構造体と、該本体構造体を支持する支持台とを備え、前記本体構造体に作用する力の変動量またはこれらに比例する物理量を計測し、該計測結果に基づいて補正係数を求め、該補正係数に基づいて前記ステージ位置計測計と被露光基板表面上の投影画像の相対位置誤差を補正することを特徴とする投影露光方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 9/00
FI (2件)：
H01L 21/30 516 B ,  G03F 9/00 H
Fターム (8件)：
5F046BA03 ,  5F046CC14 ,  5F046DA27 ,  5F046DB03 ,  5F046DB06 ,  5F046DB10 ,  5F046ED02 ,  5F046FC06
引用特許：
審査官引用 (4件)
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