特許
J-GLOBAL ID:200903069088075035

露光装置およびデバイス製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 伊東 哲也 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-171259
公開番号(公開出願番号):特開平11-008189
出願日: 1997年06月13日
公開日(公表日): 1999年01月12日
要約:
【要約】【課題】 本体構造体の歪みにかかわらず正確な位置決めが行えるようにする。【解決手段】 基板18を保持して移動させる基板ステージ13,15と、前記基板ステージの位置を測定する位置測定手段14と、その測定位置に基づいて前記基板を位置決めするために前記基板ステージの駆動制御を行う制御手段16とを備え、前記基板と原板2を位置決めし、前記原板のパターンを前記基板上に露光する露光装置において、前記位置測定手段が固定された構造体8の歪みを測定する歪み測定手段9を具備し、前記制御手段は、この測定歪みを考慮して前記ステージの駆動制御による基板の位置決めを行う。
請求項(抜粋):
基板を保持して移動させる基板ステージと、前記基板ステージの位置を測定する位置測定手段と、その測定位置に基づいて前記基板を位置決めするために前記基板ステージの駆動制御を行う制御手段とを備え、前記基板と原板を位置決めし、前記原板のパターンを前記基板上に露光する露光装置において、前記位置測定手段が固定されている構造体の歪みを測定する歪み測定手段を具備し、前記制御手段は、この測定歪みを考慮して前記ステージの駆動制御による基板の位置決めを行うものであることを特徴とする露光装置。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  G03F 9/00
FI (3件):
H01L 21/30 516 Z ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 516 B
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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