特許
J-GLOBAL ID:200903087582252878

重ね合わせアライメントマークの設計

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-504473
公開番号(公開出願番号):特表2004-501516
出願日: 2001年06月22日
公開日(公表日): 2004年01月15日
要約:
【課題】【解決手段】マーク(10)は、少なくとも1つの周期構造セット(60A〜60B)と、少なくとも2つのテスト周期構造セット(60C,70C)と、を備え、双方が1つの軸に沿って配置されている。マークは、デバイスの2つの層間の相対的な位置を測定するために使用される。各テスト周期構造セットは、第1および第2のセクションに形成された周期構造を有する。第1および第2のセクションの周期構造は、それぞれ、デバイスの2つの層のうちの一方に形成されている。各テストセットの第1および第2のセクションは、それぞれ、次のテストセットの第2および第1のセクションに近接して配置されている。このマークは、マークを走査する2つのビームがデバイスの2つの層の一方に形成されたテストセクションと、他方に形成されたテストセクションと、の上方を移動することを許容する。【選択図】図2
請求項(抜粋):
デバイスの第1の層と前記第1の層上に形成された第2の層との間の相対的な位置の測定に使用されるマークであって、 1つの軸に沿って配置され、前記デバイスの第1の層上に形成された第1のキャリブレーション周期構造セットと、 前記軸に沿って配置された少なくとも2つのテスト周期構造セットであって、各テスト周期構造セットは、前記第1の層上に形成されたテスト周期構造を含む第1のセクションと、前記第2の層上に形成されたテスト周期構造を含む第2のセクションと、を含み、各セットの前記第1のセクションと前記第2のセクションとは、それぞれ、次のテスト周期構造セットの前記第2のセクションと前記第1のセクションとに近接して配置されている、前記少なくとも2つのテスト周期構造セットと、 を備える、マーク。
IPC (4件):
H01L21/027 ,  G01B11/00 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00
FI (4件):
H01L21/30 522 ,  G01B11/00 G ,  G03F7/20 521 ,  G03F9/00 H
Fターム (21件):
2F065AA07 ,  2F065AA14 ,  2F065AA20 ,  2F065BB03 ,  2F065BB28 ,  2F065CC19 ,  2F065FF48 ,  2F065GG06 ,  2F065HH04 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ07 ,  2F065LL04 ,  2F065LL42 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  5F046EA07 ,  5F046EA09 ,  5F046EA10 ,  5F046EB05 ,  5F046FA05
引用特許:
審査官引用 (5件)
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