光学活性アルコールの製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：江幡敏夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-223521
公開番号（公開出願番号）：特開2002-037760
出願日： 2000年07月25日
公開日（公表日）： 2002年02月06日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】β-ケト酸類を不斉水素化し、所望する絶対配置の光学活性アルコール類を高い光学純度で得る方法の提供。【解決手段】式I[式中、R1は置換可能C1〜C15のアルキル基(置換基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、等である)、アリール基、R2はC1〜C8の低級アルキル基又は置換可能ベンジル基]で表わされるβ-ケトエステル類、式II[式中、R3、R4は各々独立に、シクロアルキル基、置換可能フェニル基、または五員複素芳香環残基]で表される光学活性三級ジホスフィン化合物を配位子とするルテニウム錯体の存在下不斉水素化し、式III[式中、R1、R2は上記と同じものである]で表わされる光学活性アルコールを得る。

請求項（抜粋）：

下記一般式 ( I )【化1】[ 式中、R1は置換基を有していてもよいC1〜C15のアルキル基(置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、保護基で保護されたアミノ基、鉱酸または有機酸で保護されたアミノ基、C1〜C4の低級アルキル置換アミノ基、ベンジルオキシ基、C1〜C4の低級アルコキシ基、C1〜C4の低級アルコキシカルボニル基またはアリール基である)、アリール基を示し、R2はC1〜C8の低級アルキル基または置換基を有していてもよいベンジル基を示す]で表わされるβ-ケトエステル類を、下記一般式 (II)【化2】[式中、R3、R4は各々独立に、シクロアルキル基、非置換もしくは置換フェニル基、または五員複素芳香環残基を示す]で表される光学活性三級ジホスフィン化合物を配位子とするルテニウム錯体の存在下不斉水素化することを特徴とする、下記一般式 ( III )【化3】[式中、R1、R2は上記と同じものである]で表わされる光学活性アルコールの製造方法。

IPC (9件)：

C07C 67/31 , B01J 31/24 , C07B 53/00 , C07C 69/675 , C07C 69/732 , C07C227/30 , C07C229/22 , C07B 61/00 300 , C07M 7:00

FI (9件)：

C07C 67/31 , B01J 31/24 Z , C07B 53/00 B , C07C 69/675 , C07C 69/732 Z , C07C227/30 , C07C229/22 , C07B 61/00 300 , C07M 7:00

Fターム (26件)：

4G069BA27A , 4G069BA27B , 4G069BC70A , 4G069BC70B , 4G069BE26A , 4G069BE26B , 4G069BE33A , 4G069BE33B , 4G069CB57 , 4H006AA02 , 4H006AC41 , 4H006AC81 , 4H006BA23 , 4H006BA48 , 4H006BA52 , 4H006BA61 , 4H006BE20 , 4H006BJ50 , 4H006BM30 , 4H006BM72 , 4H006BN10 , 4H006BT12 , 4H006BU32 , 4H006KA31 , 4H039CA60 , 4H039CB20

引用特許：

審査官引用 (5件)

光学活性アルコ-ルの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-119911 出願人：高砂香料工業株式会社
新規なキラルジホスフィン化合物、その製造中間体、該ジホスフィン化合物を配位子とする遷移金属錯体並びに該錯体を含む不斉水素化触媒
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-359818 出願人：高砂香料工業株式会社
ルテニウム-ホスフィン錯体及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-092174 出願人：高砂香料工業株式会社

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