特許
J-GLOBAL ID：200903087788479828
基板清浄化方法および基板収納装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-291070
公開番号（公開出願番号）：特開平8-148551
出願日： 1994年11月25日
公開日（公表日）： 1996年06月07日
要約：
【要約】【目的】 基板収納装置内に保管された基板上の有機物や非金属イオンの汚染に対し、清浄度を保持し、さらに向上し得る基板清浄化方法と基板収納装置を提供する。【構成】 ウェーハを収納している基板収納装置1内の雰囲気気体を循環させ、その気体流路に設けられたフィルタエレメントホルダー10、11に装着されている粒状並びにシート状(13a)のガス状不純物捕捉体エレメントと微粒子除去用メンブレンフィルタエレメント13bで清浄化することにより、基板表面の清浄度を向上させる。
請求項（抜粋）：
雰囲気気体を出入りさせる気体排出孔と気体送入孔とを有する基板収納密閉ケースに基板を収納し、前記基板収納密閉ケースの気体送入孔からガス状不純物を除去した気体を送入するとともに前記気体排出孔から該気体を排出させることにより、前記基板をガス状不純物のない雰囲気下に置くことを特徴とする基板清浄化方法。
IPC (2件)：
H01L 21/68
, G02F 1/1333 500
