積層体の製造方法及び積層体の製造装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：池内寛幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-094702
公開番号（公開出願番号）：特開2000-294449
出願日： 1999年04月01日
公開日（公表日）： 2000年10月20日
要約：

【要約】【課題】周回する支持体上に、樹脂層と、真空プロセスによる金属薄膜層とを含む積層体を製造する方法において、金属薄膜層の積層の開始又は終了のための遮蔽板の移動に起因して形成される不安定な金属薄膜領域の発生を抑え、原料の無駄を少なくし、生産性を向上させる。【解決手段】遮蔽板130の移動を支持体111の移動方向と垂直方向に行う。

請求項（抜粋）：

樹脂層を積層する工程と、金属材料を真空プロセスにより堆積させて金属薄膜層を積層する工程とを有し、これらを周回する支持体上で行うことにより前記支持体上に樹脂層と金属薄膜層とを含む積層体を製造するに際し、前記金属薄膜層の積層の開始又は終了を金属材料供給源と支持体との間に設置された遮蔽板を移動することにより行う積層体の製造方法であって、前記遮蔽板の移動を支持体の移動方向と略垂直方向に行うことを特徴とする積層体の製造方法。

Fターム (31件)：

5E082AA01 , 5E082AB03 , 5E082BC38 , 5E082EE05 , 5E082EE23 , 5E082EE24 , 5E082EE25 , 5E082EE26 , 5E082EE27 , 5E082FG03 , 5E082FG34 , 5E082FG42 , 5E082FG56 , 5E082GG10 , 5E082GG26 , 5E082GG27 , 5E082GG28 , 5E082HH25 , 5E082HH47 , 5E082JJ03 , 5E082JJ22 , 5E082JJ26 , 5E082LL02 , 5E082LL03 , 5E082MM06 , 5E082MM11 , 5E082MM13 , 5E082MM23 , 5E082PP02 , 5E082PP09 , 5E082PP10

引用特許：

審査官引用 (4件)

反応性スパッタ装置および反応性スパッタ方法ならびに反応性蒸着装置および反応性蒸着方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-099952 出願人：ティーディーケイ株式会社
真空蒸着装置用蒸発源のシャッタ機構
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-355955 出願人：日本真空技術株式会社
特開平3-104865

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