特許
J-GLOBAL ID：200903087868751251

投影露光装置及びデバイスの製造方法

発明者：
佐野 和生

佐野 和生 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-290029
公開番号（公開出願番号）：特開2000-106339
出願日： 1998年09月28日
公開日（公表日）： 2000年04月11日
要約：
【要約】【課題】 走査型の投影露光装置において、2次光源の有効半径の変化を伴う露光条件が変更されても被照射面上の積算露光量の均一性が損なわれないような露光を実現すること。【解決手段】 照明光学系の光路内のスリットを介してスリット状の照射領域を持つ光を第1物体に照射し、第1物体と第2物体を同期走査して前記第1物体上のパターンを前記第2物体上に投影光学系を介して結像転写する投影露光装置において、2次光源の有効半径をR、前記スリットと前記第1物体、若しくはその共役面の光学的な距離をd、前記照明光学系の焦点距離をf、光源のパルス発振周波数をF、走査露光時の前記第1物体の走査速度をVとするとき、R,d,f,F,Vのいずれかのパラメータに応じて走査方向における積算露光強度を一定化するように、残りのパラメータのいずれかを変更する制御手段を有すること。
請求項（抜粋）：
照明光学系の光路内のスリットを介してスリット状の照射領域を持つ光を第1物体に照射し、第1物体と第2物体を同期走査して前記第1物体上のパターンを前記第2物体上に投影光学系を介して結像転写する投影露光装置において、2次光源の有効半径をR、前記スリットと前記第1物体、若しくはその共役面の光学的な距離をd、前記照明光学系の焦点距離をf、光源のパルス発振周波数をF、走査露光時の前記第1物体の走査速度をVとするとき、R,d,f,F,Vのいずれかのパラメータに応じて走査方向における積算露光強度を一定化するように、残りのパラメータのいずれかを変更する制御手段を有することを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (3件)：
H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 D
Fターム (4件)：
5F046BA05 ,  5F046CB13 ,  5F046DA02 ,  5F046DB01
引用特許：
審査官引用 (4件)
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