特許
J-GLOBAL ID：200903087947484897

有機分子膜パターンの製造方法

発明者：
石田 方哉

石田 方哉 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 上柳 雅誉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-202201
公開番号（公開出願番号）：特開2002-018273
出願日： 2000年07月04日
公開日（公表日）： 2002年01月22日
要約：
【要約】【課題】 紫外光とフォトマスクを用いた有機分子膜パターンの作製には、タクトタイムが比較的長いため、製造コストが下がらない。【解決手段】 紫外光を遮光するパターンを有する基板上に膜厚が3nm以下の有機分子膜を形成した後に、前記基板を介して紫外光を照射して、有機分子膜の一部を除去する。
請求項（抜粋）：
紫外光を遮光するパターンを有する基板上に、膜厚が3nm以下の有機分子膜を形成した後に、前記基板を介して紫外光を照射して、有機分子膜の一部を除去する有機分子膜パターンの製造方法。
IPC (4件)：
B01J 19/08 ,  B05C 3/20 ,  B05D 3/06 102 ,  B05D 7/24 302
FI (4件)：
B01J 19/08 B ,  B05C 3/20 ,  B05D 3/06 102 Z ,  B05D 7/24 302 Y
Fターム (22件)：
4D075AC21 ,  4D075AE03 ,  4D075BB20Z ,  4D075BB46Y ,  4D075BB92Z ,  4D075BB94Y ,  4D075CA47 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DC22 ,  4D075EA05 ,  4D075EB16 ,  4D075EB42 ,  4F040AA12 ,  4F040BA43 ,  4F040DB16 ,  4G075AA24 ,  4G075BC06 ,  4G075CA33 ,  4G075FB02 ,  4G075FB11
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (6件)
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引用文献：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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