特許
J-GLOBAL ID:200903087956156584
平面アンテナ部材、これを用いたプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
浅井 章弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-067477
公開番号(公開出願番号):特開2000-268996
出願日: 1999年03月12日
公開日(公表日): 2000年09月29日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 電界集中による異常放電を抑制しつつ大電力を投入することができる平面アンテナ部材を提供する。【解決手段】 被処理体Wを載置する載置台24を内部に設けて真空引き可能になされた処理容器22内に対して、複数のスロット84からプラズマ発生用のマイクロ波を導入するための平面アンテナ部材66において、前記スロットの内側には、円偏波形成用導体86が配置されている。これにより、電界集中による異常放電を抑制しつつ大電力を投入することを可能とする。
請求項(抜粋):
被処理体を載置する載置台を内部に設けて真空引き可能になされた処理容器内に対してマイクロ波を導入するための平面アンテナ部材において、スロットを形成する複数の貫通孔を有する第1の導体と、前記貫通孔内に配置された第2の導体とよりなることを特徴とする平面アンテナ部材。
IPC (6件):
H05H 1/46
, C23C 16/511
, C23F 4/00
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
, H01L 21/31
FI (7件):
H05H 1/46 B
, H05H 1/46 L
, C23C 16/50 E
, C23F 4/00 D
, H01L 21/205
, H01L 21/31 C
, H01L 21/302 B
Fターム (32件):
4K030CA04
, 4K030FA01
, 4K030HA07
, 4K030JA01
, 4K030KA30
, 4K030KA45
, 4K030KA46
, 4K057DA11
, 4K057DA20
, 4K057DD01
, 4K057DE08
, 4K057DM29
, 4K057DM35
, 4K057DM37
, 4K057DM39
, 4K057DM40
, 4K057DN01
, 5F004AA01
, 5F004AA16
, 5F004BB14
, 5F004BB29
, 5F004BD01
, 5F004BD03
, 5F004BD04
, 5F004DA01
, 5F045AA09
, 5F045BB02
, 5F045DP03
, 5F045EB03
, 5F045EH02
, 5F045EH03
, 5F045EM09
引用特許:
審査官引用 (7件)
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プラズマ処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-144781
出願人:株式会社日立製作所
-
プラズマ処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-248767
出願人:東京エレクトロン株式会社
-
特開平4-296106
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