特許
J-GLOBAL ID：200903088024775070

基板処理装置

発明者：
矢部 学

矢部 学 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-271216
公開番号（公開出願番号）：特開2000-100707
出願日： 1998年09月25日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：
【要約】【課題】 基板を保持する保持部材が処理液吐出ノズルから吐出される処理液の状態に影響を及ぼさず、かつ処理液吐出ノズルが保持部材に干渉することが防止された基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板保持部1のスピンベース11は、基板100の裏面を支持する複数の支持ピン14および基板100の水平位置を規制する複数の回転式保持ピン15を備える。スピンベース11は下向きに傾斜した外側傾斜部11bを備える。回転式保持ピン15は外側傾斜部11bに垂直な軸の周りで回動可能に外側傾斜部11bに取り付けられている。ピン支持部17の回動に伴ってピン部材16が基板100の外周端部から離間したときに、ピン部材16の上端は基板100の表面より低い位置になる。
請求項（抜粋）：
基板上に処理液を供給して基板に所定の処理を行う基板処理装置であって、基板が載置されるベース部材と、前記ベース部材上に載置される基板の外周部に沿うように配設され、基板の位置を規制する複数の保持部材と、前記ベース部材上に載置される基板に処理液を吐出する処理液吐出ノズルとを備え、前記複数の保持部材の各々は、前記ベース部材に外方へ傾斜した軸の周りで回動可能に設けられた支持部と、前記支持部の回動に伴って基板の外周端部に当接するように前記支持部の回動軸に対して偏心して前記支持部上に設けられた保持部とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/30 502
FI (3件)：
H01L 21/30 569 C ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/30 502
Fターム (9件)：
2H096AA25 ,  2H096GA31 ,  2H096GA32 ,  4F042AA07 ,  4F042EB08 ,  4F042EB09 ,  5F046LA04 ,  5F046LA05 ,  5F046LA14
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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