レーザ加工装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高田守 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-004964
公開番号（公開出願番号）：特開平8-192283
出願日： 1995年01月17日
公開日（公表日）： 1996年07月30日
要約：

【要約】【目的】レーザ光の品質を劣化させること無く、十分な光量が得られるレーザ光及びレーザ照射点に生じる光を透過あるいは反射させるミラーを持つレーザ加工装置を提供する。【構成】光伝送路10に設けられた光路ミラー6aの代わりに、レーザ光2a以外の波長の光は透過し、かつレーザ光2aはほぼ100%反射し、しかも前記反射されたレーザ光2aは反射される前のレーザ光のP偏光、S偏光の両成分間の位相差をほぼ保持したまま反射できるように光学膜設計された誘電体多層膜を備えた位相差制御ミラー14を設けることにより、レーザ加工中に被加工物Wのレーザ照射点に発生した光5の中からレーザ光2a以外の波長の光を光伝送路10の外に取り出し、上記取り出された光を光センサ7で検出できるように構成する。

請求項（抜粋）：

被加工物を加工するためのレーザ光を発振するレーザ発振手段と、このレーザ発振手段から出力されたレーザ光を円偏光レーザ光に変換する円偏光ミラーと、この円偏光ミラーにより円偏光された円偏光レーザ光を集光し、被加工物に対して照射する光学手段と、この光学手段と上記円偏光ミラーとの間に位置し、円偏光レーザ光を、S偏光成分及びP偏光成分の両成分間の位相差を保持したまま上記光学手段へ反射すると共に、上記円偏光レーザ光の上記被加工物への照射により上記被加工物の加工点に発生する光を透過する位相差制御ミラーと、この位相差制御ミラーにより透過された上記光を検出し、光検出信号を発生する光検出手段と、この光検出手段からの光検出信号に基づきレーザ加工状態を認識し、レーザ加工状態認識信号を出力するレーザ加工認識手段と、このレーザ加工認識手段により出力されたレーザ加工状態認識信号に基づき上記被加工物に対するレーザ加工を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とするレーザ加工装置。

IPC (4件)：

B23K 26/00 , B23K 26/06 , H01S 3/00 , G02B 5/30

引用特許：

審査官引用 (5件)

レーザ加工装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-210366 出願人：浜松ホトニクス株式会社
レーザ切断方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-339407 出願人：株式会社北川鉄工所
特開昭63-093489

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