特許
J-GLOBAL ID：200903088121025680

液晶表示装置の製造方法

発明者：
中 村 弘 喜

中 村 弘 喜 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-156581
公開番号（公開出願番号）：特開2001-337334
出願日： 2000年05月26日
公開日（公表日）： 2001年12月07日
要約：
【要約】【課題】 基板厚を低減しても、基板間隙の均一性のよい装置を提供する。【解決手段】 一対の絶縁性基板間に複数個の液晶表示素子を形成するに当り、この一対の絶縁性基板間に、その各液晶表示素子を囲む個別シール材とこの一対の絶縁性基板の周囲部分を囲む外周シール材とを形成し、前記一対の絶縁性基板のうちの少なくとも一方の基板の厚さを薄くし、その後前記液晶表示素子毎に分離するようにした液晶表示装置の製造方法において、前記一対の絶縁性基板のうちの画素電極側基板の画素電極の下 部に平坦化層を形成する工程と、前記一対の絶縁性基板のうちの少なくとも一方の基板上に、これらの基板間の間隙を規定する間隙部材を形成する工程と、前記個別シール材と前記周辺シール材の少なくとも一方と重なる領域における前記平坦化層を予め除去する工程と、を有するものとして構成される。
請求項（抜粋）：
一対の絶縁性基板間に複数個の液晶表示素子を形成するに当り、この一対の絶縁性基板間に、その各液晶表示素子を囲む個別シール材とこの一対の絶縁性基板の周囲部分を囲む外周シール材とを形成し、前記一対の絶縁性基板のうちの少なくとも一方の基板の厚さを薄くし、その後前記液晶表示素子毎に分離するようにした液晶表示装置の製造方法において、前記一対の絶縁性基板のうちの画素電極側基板の画素電極の下部に平坦化層を形成する工程と、前記一対の絶縁性基板のうちの少なくとも一方の基板上に、これらの基板間の間隙を規定する間隙部材を形成する工程と、前記個別シール材と前記周辺シール材の少なくとも一方と重なる領域における前記平坦化層を予め除去する工程と、を有することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
IPC (2件)：
G02F 1/1339 505 ,  G02F 1/1368
FI (2件)：
G02F 1/1339 505 ,  G02F 1/136 500
Fターム (21件)：
2H089LA42 ,  2H089NA51 ,  2H089QA11 ,  2H089QA14 ,  2H089TA01 ,  2H089TA09 ,  2H089TA12 ,  2H089TA16 ,  2H089UA05 ,  2H092GA29 ,  2H092JA24 ,  2H092JA46 ,  2H092JB58 ,  2H092KA05 ,  2H092MA07 ,  2H092MA30 ,  2H092NA25 ,  2H092PA01 ,  2H092PA07 ,  2H092PA08 ,  2H092RA05
引用特許：
審査官引用 (8件)
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