特許
J-GLOBAL ID:200903088146006507
廃棄物、特に放射性廃棄物を焼却し且つガラス化する方法と装置
発明者:
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
三好 秀和 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-585171
公開番号(公開出願番号):特表2002-531813
出願日: 1999年12月01日
公開日(公表日): 2002年09月24日
要約:
【要約】本発明は、分別された固体及び/又は液体状態の有機廃棄物(D)を処理する方法を提供する、この方法は、気相(G)で覆われた溶融ガラス浴(V)を有する単一反応炉(1)内で実行され、この方法は、前記溶融ガラス浴(V)の表面(S)で酸素の存在下において前記廃棄物(D)を焼却すること、並びに前記焼却済みの廃棄物(D)を前記溶融ガラス浴(V)中でガラス化することから構成される。前記方法において、特徴的方法として、前記気相(G)中に酸化剤として供給される酸素に加えて、前記ガラス浴(V)内で金属が生成するのを最少化又は阻止するのに十分な量の、より効果的には前記ガラス浴(V)内で金属が生成するのを最少化又は阻止し且つ前記ガラス浴(V)を適度に撹拌するのに十分な量の、酸素が前記溶融ガラス浴(V)中に更に注入されることを特徴としている。本発明は、分別された固体及び/又は液体状態の有機廃棄物(D)を、焼却及びガラス化によって処理する装置も亦提供する、この装置は、前記方法を実施するのに適したものである。
請求項(抜粋):
分別された固体及び/又は液体状態の有機廃棄物(D)を処理する方法、この方法は、気相(G)で覆われた溶融ガラス浴(V)を有する単一反応炉(1)内で実行され、この方法は、前記溶融ガラス浴(V)の表面(S)で酸素の存在下において前記廃棄物(D)を焼却すること、並びに前記焼却済みの廃棄物(D)を前記溶融ガラス浴(V)中でガラス化することから構成され、この方法は、前記気相(G)中に酸化剤として送達される酸素に加えて、前記ガラス浴(V)内で金属が生成するのを最少化又は阻止するのに十分な量の、より効果的には前記ガラス浴(V)内で金属が生成するのを最少化又は阻止し且つ前記ガラス浴(V)を適度に撹拌するのに十分な量の、酸素が前記溶融ガラス浴(V)中に更に注入されることを特徴としている。
IPC (4件):
G21F 9/30 519
, G21F 9/30
, B09B 3/00
, C03B 3/00 ZAB
FI (7件):
G21F 9/30 519 K
, G21F 9/30 519 A
, G21F 9/30 519 P
, C03B 3/00 ZAB
, B09B 3/00 303 J
, B09B 3/00 303 K
, B09B 3/00 303 Z
Fターム (9件):
4D004AA01
, 4D004AB09
, 4D004CA28
, 4D004CA29
, 4D004CB31
, 4D004CB33
, 4D004CC01
, 4D004CC13
, 4G014AB00
引用特許:
前のページに戻る