特許
J-GLOBAL ID：200903088194978936

処理装置及び処理方法

発明者：
小濱 恭司

小濱 恭司 について

, 
新保 栄二

新保 栄二 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 萩原 康司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-119957
公開番号（公開出願番号）：特開2000-308859
出願日： 1999年04月27日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
要約：
【要約】【課題】 複数の種類の処理流体を同じ装置内に供給しても,クロスコンタミネーションの発生を防止することができる処理装置及び処理方法を提供する。【解決手段】 SPM洗浄,リンス洗浄,SC1洗浄,リンス洗浄,乾燥処理の順番でウェハWに対して洗浄工程を施す洗浄装置1において,外洗浄室2と,内洗浄室4と,外洗浄室2内に内洗浄室4を出し入れする昇降機構6とを備えている。昇降機構6は,SPM洗浄とその後のリンス洗浄を行う場合には,内洗浄室4にウェハWを収納した状態に切り換え,次のSC1洗浄から最後の乾燥処理を行う場合には,外洗浄室2にウェハWを収納した状態に切り換える。
請求項（抜粋）：
処理室内に収納した基板に対して処理流体を供給して所定の処理を施す処理装置であって,前記処理室を複数設け,これら複数の処理室のうちの少なくとも1つの処理室を前記基板の周囲に移動させる移動手段を設けたことを特徴とする,処理装置。
IPC (4件)：
B08B 3/04 ,  H01L 21/304 642 ,  H01L 21/304 648 ,  H01L 21/306
FI (4件)：
B08B 3/04 Z ,  H01L 21/304 642 B ,  H01L 21/304 648 H ,  H01L 21/306 J
Fターム (21件)：
3B201AA03 ,  3B201AB08 ,  3B201AB42 ,  3B201BB04 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB96 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  5F043BB27 ,  5F043DD23 ,  5F043DD30 ,  5F043EE02 ,  5F043EE03 ,  5F043EE04 ,  5F043EE15 ,  5F043EE32 ,  5F043EE35 ,  5F043EE36 ,  5F043EE40 ,  5F043GG10
引用特許：
審査官引用 (5件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-155904   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 特開昭58-210624
  • ウェーハ湿式処理装置及び方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-355787   出願人：エルジーセミコンカンパニーリミテッド
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