特許

J-GLOBAL ID：200903088353842498

保護膜形成用材料、積層体およびレジストパターン形成方法

発明者： 石塚 啓太 ,  遠藤 浩太郎 ,  岩下 淳
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-003807
公開番号（公開出願番号）：特開2006-194962
出願日： 2005年01月11日
公開日（公表日）： 2006年07月27日
要約：

【課題】 物質遮断性に優れた保護膜を形成することができる保護膜形成用材料、該保護膜形成用材料を用いた積層体およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】 アクリル酸から誘導され、かつ環式構造を有しない構成単位であって、側鎖にアルコール性水酸基を有する構成単位(a0-1)と、フッ素化されたヒドロキシアルキル基を有する脂環式基を含有する構成単位(a1)とを含むアルカリ可溶性樹脂(A1)を有機溶剤に溶解してなる、レジスト層用のアルカリ現像液で除去可能な保護膜形成用材料。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

アクリル酸から誘導され、かつ環式構造を有しない構成単位であって、側鎖にアルコール性水酸基を有する構成単位(a0-1)と、フッ素化されたヒドロキシアルキル基を有する脂環式基を含有する構成単位(a1)とを含むアルカリ可溶性樹脂(A1)を有機溶剤に溶解してなる、レジスト層用のアルカリ現像液で除去可能な保護膜形成用材料。

IPC (3件)：

G03F 7/11 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F7/11 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 575

Fターム (14件)：

2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025DA02 ,  2H025DA03 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  5F046JA22

引用特許：

出願人引用 (1件)

• レジスト用塗布液およびこれを用いたレジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-127272   出願人：東京応化工業株式会社

審査官引用 (3件)

• トップコート組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-201439   出願人：セントラル硝子株式会社
• 新規水溶性ポリマー、これを用いた反射防止膜材料及びこれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-195409   出願人：和光純薬工業株式会社
• 含フッ素重合性単量体およびそれを用いた高分子化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-222530   出願人：セントラル硝子株式会社, 東ソ-・エフテック株式会社