特許
J-GLOBAL ID：200903017185888954
トップコート組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-201439
公開番号（公開出願番号）：特開2005-316352
出願日： 2004年07月08日
公開日（公表日）： 2005年11月10日
要約：
【課題】 露光部、非露光部ともに同様な速度で、かつ短時間で現像液に溶解するコーティング膜をレジスト膜上にコーティングでき、この膜がレジスト膜と水を遮断し、この場合、水への膨潤が少ないこと、下層のフォトレジストを侵さない、膜の屈折率を調整できるなどの性能を同時に満足する高分子化合物が望まれている。【解決手段】 特定のフルオロアルコール基を同一単量体に有する構造を有する高分子を用いることにより、水に対する膨潤性、溶解性を抑制し、現像液には瞬時に溶解し、かつ、密着性やガラス転移点(Tg)を高めた新規なトップコート組成物と液浸リソグラフィーへの応用を見出した。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
一般式[1]、[2]又は[3]で表される少なくともいずれかの構造を含有する高分子を用い、フォトレジスト上面に塗布することを特徴とするトップコート組成物。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/11 501
, H01L21/30 575
2H025AA00
, 2H025AA04
, 2H025AB16
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025DA03
, 2H025FA08
, 5F046JA22
