特許
J-GLOBAL ID：200903088418535466
膜形成用組成物および絶縁膜形成用材料
発明者：
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-352862
公開番号（公開出願番号）：特開2001-164113
出願日： 1999年12月13日
公開日（公表日）： 2001年06月19日
要約：
【要約】【課題】 適当な均一な厚さを有する塗膜が形成可能な、溶液の長期保存安定性やに優れ、かつ低吸湿性の低誘電率の塗膜が得られる膜形成用組成物を得る。【解決手段】 (A)(A-1)下記一般式(1)で表される化合物Si(OR2)4 ・・・・・(1)(R2は1価の有機基を示す。)および(A-2) 下記一般式(2)で表される化合物R1aSi(OR2)4-a ・・・・・(2)(R1は水素原子、フッ素原子または1価の有機基を示し、R2は1価の有機基を示し、aは1〜2の整数を表す。)からなるシラン化合物を(B)下記一般式(3)で表される金属のキレート化合物R10eM(OR11)f-e ・・・・・(3)(R10はキレート剤、Mは金属原子、R11は炭素数2〜5のアルキル基または炭素数6〜20のアリール基を示し、fは金属Mの原子価、eは1〜fの整数を表す。)と水の存在下で反応させた加水分解物および縮合物もしくはいずれか一方、(C)プロピレングリコールモノアルキルエーテルならびに(D)β-ジケトンを含有することを特徴とする膜形成用組成物。
請求項（抜粋）：
(A)(A-1)下記一般式(1)で表される化合物Si(OR2)4 ・・・・・(1)(R2は1価の有機基を示す。)および(A-2) 下記一般式(2)で表される化合物R1aSi(OR2)4-a ・・・・・(2)(R1は水素原子、フッ素原子または1価の有機基を示し、R2は1価の有機基を示し、aは1〜2の整数を表す。)からなるシラン化合物を(B)下記一般式(3)で表される金属のキレート化合物R10eM(OR11)f-e ・・・・・(3)(R10はキレート剤、Mは金属原子、R11は炭素数2〜5のアルキル基または炭素数6〜20のアリール基を示し、fは金属Mの原子価、eは1〜fの整数を表す。)と水の存在下で反応させた加水分解物および縮合物もしくはいずれか一方、(C)プロピレングリコールモノアルキルエーテルならびに(D)β-ジケトンを含有することを特徴とする膜形成用組成物。
IPC (6件)：
C08L 83/04
, C08K 5/06
, C08K 5/07
, C08L 83/02
, H01L 21/312
, C09D183/00
C08L 83/04
, C08K 5/06
, C08K 5/07
, C08L 83/02
, H01L 21/312 C
, C09D183/00
4J002BD122
, 4J002CP021
, 4J002CP031
, 4J002CP032
, 4J002ED026
, 4J002EE047
, 4J002FD206
, 4J002FD207
, 4J002FD312
, 4J002GQ01
, 4J038DL021
, 4J038DL031
, 4J038JA19
, 4J038JA26
, 4J038JA34
, 4J038JC32
, 4J038KA09
, 4J038NA21
, 4J038PB09
, 5F058AA03
, 5F058AA04
, 5F058AA10
, 5F058AC03
, 5F058AF04
, 5F058AG01
, 5F058AH01
, 5F058AH02
, 5F058BA06
, 5F058BA07
, 5F058BA20
, 5F058BD07
, 5F058BF46
, 5F058BH01
, 5F058BJ01
, 5F058BJ02
