研磨方法及び研磨システム

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：飯塚雄二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-293427
公開番号（公開出願番号）：特開2000-117636
出願日： 1998年10月15日
公開日（公表日）： 2000年04月25日
要約：

【要約】【課題】研磨スラリーを再利用した場合にも研磨レートの低下を防ぎ、安定且つ効率の良い研磨作業を行うこと。【解決手段】酸化剤が添加された研磨スラリーを低温状態で貯留するとともに、使用直前に所定温度まで加熱する。

請求項（抜粋）：

酸化剤を添加した研磨スラリーを用いるとともに、当該研磨スラリーを再生利用しつつ、研磨装置によって被研磨材を研磨する研磨方法において、前記酸化剤が添加された研磨スラリーを氷結しない低温状態で貯留し;前記低温貯留された研磨スラリーを使用直前に所定温度まで加熱することを特徴とする研磨方法。

IPC (3件)：

B24B 57/02 , B24B 37/00 , H01L 21/304 622

FI (3件)：

B24B 57/02 , B24B 37/00 H , H01L 21/304 622 R

Fターム (6件)：

3C047AA18 , 3C047GG14 , 3C047GG17 , 3C058AA07 , 3C058BA08 , 3C058DA02

引用特許：

審査官引用 (4件)

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