露光データ作成方法、アパーチャマスクデータの作成方法、荷電ビーム露光方法、及び荷電ビーム露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-093667
公開番号（公開出願番号）：特開2002-289510
出願日： 2001年03月28日
公開日（公表日）： 2002年10月04日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】露光データを作成する時間を短縮すると共に、露光データの容量を少なくする。【解決手段】キャラクタプロジェクション方式の帯電ビーム露光装置において、一つのアパーチャブロック内に、スタンダードセルの各レイヤーのキャラクタアパーチャを、各レイヤーに対応するアパーチャブロックに振り分けて配置することにより、全部のレイヤーについて必要なキャラクタをそれぞれ一つのアパーチャブロックに収納することができる。さらに、各キャラクタのアパーチャブロック内への配置を2入力ANDセルの各レイヤーのパターンに対応するキャラクタアパーチャを、各アパーチャブロック302〜305内で同じ位置に配置することにより、キャラクタ選択偏向器に入力する偏向信号はどのレイヤーでも同じでよい。これにより、データ変換の回数を削減でき、データ変換の時間を短縮する。

請求項（抜粋）：

セルベース設計された半導体デバイスの回路パターン中で使用されているスタンダード・セルに定義されている各レイヤーからキャラクタを抽出するステップと、偏向により荷電ビームの照射が可能な複数のアパーチャブロック内に、抽出されたキャラクタ形状に応じた開口形状のキャラクタアパーチャが配置されたアパーチャマスクのパターンレイアウトを設計するステップと、設計されたパターンレイアウトに基づいて、前記アパーチャブロック内のキャラクタアパーチャの位置情報、該キャラクタアパーチャで成形された荷電ビームの試料への照射位置が記録され、前記スタンダード・セルで定義されている複数のレイヤーに共通な一つの露光データを生成するステップとを含むことを特徴とする露光データ作成方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , G06F 17/50 658 , H01L 21/82

FI (5件)：

G03F 7/20 521 , G06F 17/50 658 M , H01L 21/30 541 C , H01L 21/30 541 S , H01L 21/82 B

Fターム (17件)：

5B046AA08 , 5B046BA04 , 5B046CA05 , 5B046FA08 , 5B046KA06 , 5F056AA06 , 5F056CA22 , 5F056CB11 , 5F064AA04 , 5F064BB02 , 5F064BB03 , 5F064CC06 , 5F064DD02 , 5F064EE02 , 5F064HH06 , 5F064HH12 , 5F064HH20

引用特許：

審査官引用 (7件)

電子線描画データ作成方式
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-073468 出願人：株式会社日立製作所
アパーチヤ絞り及びその認識コード読み取り方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-217251 出願人：株式会社日立製作所
特開平2-111012

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