特許
J-GLOBAL ID：200903088854321889
整列サブシステムを備えるリソグラフィ装置、整列を使うデバイス製造方法、および整列構造体
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 山本 貴和
, 岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-417887
公開番号（公開出願番号）：特開2005-216872
出願日： 2003年12月16日
公開日（公表日）： 2005年08月11日
要約：
【課題】捕捉範囲または誤差強さを維持しながらサイズの小さい整列構造体および/または参照構造体を使った整列を行うリソグラフィ投影装置を提供する。【解決手段】リソグラフィ装置が基板(W)をマスク(MA)に対して整列するための整列サブシステム(21)を含み、整列構造体(10)が、整列(サブシステム(21)における参照格子(26)を使用して同じ周期性の位相格子部分(11)と(12)の間にある、捕捉位置またはチェック位置として検出可能な非周期性形態(15)を含み、これが整列サブシステム(21)の検知された信号における位相効果または振幅効果を引き起す。それで、この整列構造体をスクライブ・レーンに入るように細くすることができ、基板の有効面積を減らすことがない。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
リソグラフィ装置であって:
所望のパターンに従って放射線の投影ビームをパターン化するのに役立つパターニング手段(MA)を支持するための支持構造体(MT);
- 空間的に周期的な光学特性を有する整列構造体(10)を上に備える基板(W)を保持するるための基板テーブル(WT);および
- 該基板テーブル(WT)上の基板(W)を前記パターニング手段(MA)に対して整列するための整列サブシステム(21)を含み、該整列サブシステム(21)が
-空間的に周期的な整列構造体(10)と前記パターニング手段(MA)に対して定める参照位置との相対位置によって強度が変動する測定光を作るために、整列構造体(10)が反射または透過した光を光学的に処理するための光学装置(20、24、26);
-測定光の強度および/または位相情報を測定するために光学的干渉装置に結合したセンサ、
-測定光の強度および/または位相情報に基づいて基板テーブル(WT)とパターニング手段(MA)の相対位置を制御するためのアクチュエータ(PW)、を含むリソグラフィ装置に於いて、
前記整列サブシステム(21)が、更に、整列構造体上に設けてある、捕捉位置またはチェック位置として検出可能な非周期的形態(15)を使うように構成してあることを特徴とするリソグラフィ投影装置。
IPC (3件)：
H01L21/027
, G01B11/00
, G03F7/20
H01L21/30 525W
, G01B11/00 C
, G03F7/20 521
, H01L21/30 502M
2F065AA01
, 2F065BB02
, 2F065BB27
, 2F065BB28
, 2F065CC18
, 2F065CC20
, 2F065FF44
, 2F065FF48
, 2F065FF51
, 2F065GG04
, 2F065HH04
, 2F065LL21
, 2F065LL41
, 2F065PP12
, 5F046EA07
, 5F046EA09
, 5F046FC04
