特許
J-GLOBAL ID：200903088949860027

投影露光装置及び投影露光方法

発明者：
原崎 克彦

原崎 克彦 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (1件)： 山本 秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-054807
公開番号（公開出願番号）：特開2000-252199
出願日： 1999年03月02日
公開日（公表日）： 2000年09月14日
要約：
【要約】【課題】 露光波長と同程度ないし露光波長以下の微細なレジストパターンを転写する場合においても、良好な解像特性と焦点深度を得ることができる投影露光装置及び投影露光方法を提供する。【解決手段】 光源からの光を照明光学系を介してマスクに照射し、マスク上のパターンを投影光学系を介して基板上へ投影する投影露光方法において、高σの照明系を用いて露光を行う第1の露光工程S1と、低σの照明系を用いて露光を行う第2の露光工程S2とを包含し、第1の露光工程S1と第2の露光工程S2により多重露光を行う。
請求項（抜粋）：
光源からの光を照明光学系を介してマスクに照射し、該マスク上のパターンを投影光学系を介して基板上へ投影する投影露光装置であって、高σの照明系を用いて露光を行う第1の露光手段と、低σの照明系を用いて露光を行う第2の露光手段とを備え、該第1の露光手段と該第2の露光手段により多重露光を行う投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (3件)：
H01L 21/30 514 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 A
Fターム (3件)：
5F046AA13 ,  5F046CB05 ,  5F046DA14
引用特許：
審査官引用 (3件)

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