特許
J-GLOBAL ID：200903088958223951
金属反射鏡を持つ表面反射型レーザーダイオードの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 朔生 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-258536
公開番号（公開出願番号）：特開2003-078206
出願日： 2001年08月28日
公開日（公表日）： 2003年03月14日
要約：
【要約】【課題】低価格化、時間の短縮化及び高精度化を図ることができる金属反射鏡を持つ表面反射型レーザーダイオードの製造方法を提供する。【解決手段】本発明に係る金属反射鏡を持つ表面反射型レーザーダイオードの製造方法は、金属ミラーにWaferボンデッド技術を組み合わせたもので、従来のWafers方式あるいは高温高圧Waferボンデッド技術によってVCSELを製作するBargg反射鏡に取って替わるものである。金属ミラーは高反射率を持ち、VCSEL材料と形成するオームコンタクトの金属を選択することが可能である。また、金属ミラーの基板は、価格が安く放熱効果のよい基板を選択することができる。その製作過程は簡単で、製作コストも低く押さえることが可能で、VCSELの特性が良好であるという特徴を持つ。
請求項（抜粋）：
金属ミラー構造を持つ基板、及び表面反射型レーザー構造を持つWafers膜の基板が、Waferボンデッド技術とWafers膜の基板取り除き技術によって製造される、金属反射鏡を持つ表面反射型レーザーダイオードの製造方法。
Fターム (7件)：
5F073AA53
, 5F073AA74
, 5F073AB17
, 5F073CB02
, 5F073CB04
, 5F073DA16
, 5F073DA35
