特許
J-GLOBAL ID：200903089040682747

電気光学装置の製造方法、電気光学装置、及び電子機器

発明者：
林 建二

林 建二 について

, 
柄沢 康史

柄沢 康史 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  須澤 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-031054
公開番号（公開出願番号）：特開2005-222860
出願日： 2004年02月06日
公開日（公表日）： 2005年08月18日
要約：
【課題】 製造プロセス中に起こる発光層の劣化を防止することができる電気光学装置の製造方法及び電気光学装置、及び電子機器を提供することを目的とする。 【解決手段】 基体200上に、第1電極23と、第2電極50と、第1電極23と第2電極50との間に挟持される電気光学層110を有する電気光学装置1の製造方法において、第2電極50を覆う発光材料保護層65を真空蒸着法により形成する工程と、発光材料保護層65を覆う電極保護層55をプラズマ成膜法により形成する工程とを有する。 【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
基体上に、第1電極と、第2電極と、第1電極と第2電極との間に挟持される電気光学層を有する電気光学装置の製造方法において、 前記第2電極を覆う発光材料保護層を真空蒸着法により形成する工程と、 前記発光材料保護層を覆う電極保護層をプラズマ成膜法により形成する工程と、 を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
IPC (4件)：
H05B33/10 ,  G09F9/00 ,  H05B33/04 ,  H05B33/14
FI (4件)：
H05B33/10 ,  G09F9/00 342Z ,  H05B33/04 ,  H05B33/14 A
Fターム (21件)：
3K007AB11 ,  3K007BB00 ,  3K007DB03 ,  3K007FA00 ,  3K007FA01 ,  3K007FA02 ,  5G435AA13 ,  5G435AA14 ,  5G435AA17 ,  5G435BB05 ,  5G435CC09 ,  5G435CC12 ,  5G435EE37 ,  5G435EE41 ,  5G435HH02 ,  5G435HH12 ,  5G435HH14 ,  5G435HH18 ,  5G435HH20 ,  5G435KK05 ,  5G435KK10
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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