特許
J-GLOBAL ID：200903089108666036

エッチング液

発明者：
小松 利夫

小松 利夫 について


出願人/特許権者：
ザ・インクテック株式会社

ザ・インクテック株式会社 について


代理人 (2件)： 近藤 利英子 ,  吉田 勝広
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-195594
公開番号（公開出願番号）：特開2009-032914
出願日： 2007年07月27日
公開日（公表日）： 2009年02月12日
要約：
【課題】被エッチング材(金属薄膜)や特に電子線レジストパターンに対する湿潤濡れ性が優れており、安定した高微細精度のエッチング効果を持った、保存安定性のよいフォトマスク用のエッチング液を提供すること。【解決手段】下記一般式(1)で表わされる化合物を含有することを特徴とするエッチング液。(上記式中のRf1およびRf2は、アルキル基のHの全部をFで置き換えた炭素数が1〜4の直鎖のフッ化炭素基、または分岐鎖を有するフッ化炭素基であり、Xは、カリウム、リチウム、またはナトリウムイオンである。)【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で表わされる化合物(以下、「E成分」という)を含有することを特徴とするエッチング液。
IPC (2件)：
H01L 21/308 ,  G03F 1/08
FI (2件)：
H01L21/308 F ,  G03F1/08 L
Fターム (3件)：
2H095BB15 ,  5F043AA26 ,  5F043BB18
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 特許第3809044号公報
審査官引用 (5件)
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