特許

J-GLOBAL ID：200903089180258058

極端紫外線露光用マスク、マスクブランク、及び露光方法

発明者： 松尾 正 ,  西山 泰史 ,  金山 浩一郎
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
代理人 (8件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  峰 隆司 ,  福原 淑弘 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-037104
公開番号（公開出願番号）：特開2006-228767
出願日： 2005年02月15日
公開日（公表日）： 2006年08月31日
要約：

【課題】DUV露光による欠陥検査性能を向上させるとともに、電子線描画の際に位置ずれが生ずることのない極端紫外線露光用マスク、そのためのマスクブランク、及びそのようなマスクを用いた露光方法を提供すること。【解決手段】基板上に形成された多層膜からなる高反射層と、前記多層膜上に形成された吸収膜からなる低反射層とを備える極端紫外線露光用マスクブランクにおいて、前記吸収膜は、2層以上の薄膜からなり、その最上層の薄膜は、波長150nmから300nmの紫外線に対する消衰係数が0から1.2の範囲にあり、シート抵抗が50MΩ/□以下であることを特徴とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板上に形成された多層膜からなる高反射層と、前記多層膜上に形成された吸収膜からなる低反射層とを備える極端紫外線露光用マスクブランクにおいて、前記吸収膜は、2層以上の薄膜からなり、その最上層の薄膜は、波長150nmから300nmの紫外線に対する消衰係数が0から1.2の範囲にあり、シート抵抗が50MΩ/□以下であることを特徴とする極端紫外線露光用マスクブランク。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20

FI (3件)：

H01L21/30 531M ,  G03F1/16 A ,  G03F7/20 503

Fターム (10件)：

2H095BA10 ,  2H095BC05 ,  2H095BC11 ,  2H095BC24 ,  2H097CA06 ,  2H097CA15 ,  2H097GB04 ,  2H097LA10 ,  5F046GA03 ,  5F046GD10

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 反射型フォトマスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-314292   出願人：三星電子株式会社, 株式会社日立製作所, 富士通株式会社

審査官引用 (4件)

• 反射型マスクブランクス及び反射型マスク並びに反射型マスクの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-195458   出願人：HOYA株式会社
• 極限紫外線露光用マスク及びブランク並びにパターン転写方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-050634   出願人：凸版印刷株式会社
• X線露光マスク及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-001961   出願人：日本電気株式会社
• 反射型マスクブランクス及び反射型マスク及びそれらの製造方法並びに半導体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-105340   出願人：HOYA株式会社