特許
J-GLOBAL ID：200903089310653329

露光装置およびデバイス製造方法

発明者：
宇梶 隆夫

宇梶 隆夫 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-210981
公開番号（公開出願番号）：特開2000-049066
出願日： 1998年07月27日
公開日（公表日）： 2000年02月18日
要約：
【要約】【課題】 半導体露光装置に用いられるステージ装置の位置測定を正確に測定する。【解決手段】 原版に形成されているパターンを基板に投影するための投影光学系と、該投影光学系の主光軸と直交する方向に移動可能なステージと、該投影光学系を床に対して支持する鏡筒支持体と、該ステージを床に対して支持するステージ定盤とを備え、該鏡筒支持体から該ステージ定盤の位置または変位を測定するステージ定盤計測器と、該鏡筒支持体から該ステージの位置または変位を測定するステージ計測器とを有することを特徴とする露光装置により、ステージとステージ定盤の位置をこれらと振動的に独立である鏡筒支持体を基準にそれぞれ計測を行う。
請求項（抜粋）：
原版に形成されているパターンを基板に投影するための投影光学系と、該基板または原版を保持して該投影光学系に対して移動可能なステージと、該投影光学系を支持する鏡筒支持体と、該ステージを支持する定盤とを備え、該鏡筒支持体に対する該定盤の位置または変位を測定する定盤計測器と、該鏡筒支持体に対する該ステージの位置または変位を測定するステージ計測器とを有することを特徴とする露光装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00
FI (4件)：
H01L 21/30 516 B ,  G01B 11/00 G ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H
Fターム (17件)：
2F065AA04 ,  2F065CC19 ,  2F065CC25 ,  2F065FF55 ,  2F065GG04 ,  2F065HH03 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ09 ,  2F065LL12 ,  2F065LL42 ,  2F065PP12 ,  5F046CC01 ,  5F046CC03 ,  5F046CC06 ,  5F046CC15 ,  5F046CC16 ,  5F046DB05
引用特許：
審査官引用 (3件)

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