特許
J-GLOBAL ID:200903089552067351

光学像検出方法および外観検査装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 武 顕次郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-164332
公開番号(公開出願番号):特開2000-352697
出願日: 1999年06月10日
公開日(公表日): 2000年12月19日
要約:
【要約】【課題】 CMPウェハ等の外観検査において、欠陥検出上雑音となる薄膜干渉による明るさむらを低減し、高感度検査を実現すること。また、高解像度化を目的としたDUVレーザー光により画像検出をする場合においても、欠陥検出上雑音となるスペックル干渉を低減して、高感度検査を実現すること。【解決手段】 被検査物体を落射照明して反射・回折した光のうち被検査物体に対してP偏光成分の反射・回折光を透過する偏光素子と、ブリュースター角付近の光成分を透過する空間フィルタとを備え、偏光素子と空間フィルタを透過した光で光学像を形成する。さらに、DUVレーザー光により画像検出をする場合、光ファイバー束に異なる角度で光を伝搬させることによって、空間的コヒーレンスを低下させる。
請求項(抜粋):
被検査物体を落射照明して反射・回折した光のうち被検査物体に対してP偏光成分の反射・回折光を透過する偏光素子と、ブリュースター角付近の光成分のみを透過する空間フィルタとを備え、前記偏光素子と前記空間フィルタを透過した光で光学像を形成し、この光学像をイメージセンサで検出することを特徴とする光学像検出方法。
IPC (6件):
G02B 27/46 ,  G01N 21/956 ,  G02B 5/30 ,  G02B 27/28 ,  G06T 1/00 ,  H01L 21/66
FI (7件):
G02B 27/46 ,  G01N 21/956 A ,  G02B 5/30 ,  G02B 27/28 Z ,  H01L 21/66 J ,  G06F 15/64 D ,  G06F 15/64 320 C
Fターム (48件):
2G051AA51 ,  2G051AB01 ,  2G051AB02 ,  2G051BA05 ,  2G051BA10 ,  2G051BB03 ,  2G051BB05 ,  2G051BB07 ,  2G051BB11 ,  2G051BB17 ,  2G051BB20 ,  2G051CB01 ,  2G051CC11 ,  2G051DA08 ,  2H049BA02 ,  2H049BA43 ,  2H049BB03 ,  2H049BB06 ,  2H049BC23 ,  2H099AA11 ,  2H099BA09 ,  2H099CA11 ,  2H099DA01 ,  4M106AA01 ,  4M106BA04 ,  4M106BA05 ,  4M106BA06 ,  4M106BA07 ,  4M106CA38 ,  4M106CA39 ,  4M106CA41 ,  4M106DB01 ,  4M106DB02 ,  4M106DB04 ,  4M106DB07 ,  4M106DB08 ,  4M106DB11 ,  4M106DB12 ,  4M106DB13 ,  4M106DB14 ,  4M106DB18 ,  4M106DJ01 ,  4M106DJ02 ,  4M106DJ03 ,  4M106DJ04 ,  5B047AA12 ,  5B047BC07 ,  5B047BC08
引用特許:
審査官引用 (6件)
  • 特開昭60-142236
  • 基板外観検査装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-158126   出願人:オリンパス光学工業株式会社
  • 欠陥評価装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-090594   出願人:三井金属鉱業株式会社
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