特許
J-GLOBAL ID:200903089659740350
半導体製造における終点検出装置
発明者:
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
清水 守 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-250571
公開番号(公開出願番号):特開2002-064088
出願日: 2000年08月22日
公開日(公表日): 2002年02月28日
要約:
【要約】【課題】 EPDセンサ集光筒が侵されることがなく、また、受光量の調整を可能にすることができる半導体製造における終点検出装置を提供する。【解決手段】 センサ本体10に突設されるセンサ集光筒11を有する半導体製造における終点検出装置において、前記センサ集光筒11のみをプロセスチャンバに適合させて着脱可能にする。
請求項(抜粋):
センサ本体に突設されるセンサ集光筒を有する半導体製造における終点検出装置において、前記センサ集光筒のみをプロセスチャンバに適合させて着脱可能にすることを特徴とする半導体製造における終点検出装置。
IPC (2件):
FI (2件):
C23F 4/00 F
, H01L 21/302 E
Fターム (10件):
4K057DA14
, 4K057DD01
, 4K057DJ02
, 4K057DJ10
, 4K057DN01
, 5F004CB09
, 5F004DA00
, 5F004DA04
, 5F004DB00
, 5F004DB02
引用特許:
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