光学薄膜

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-094555
公開番号（公開出願番号）：特開平8-262225
出願日： 1995年03月27日
公開日（公表日）： 1996年10月11日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】本発明は高い光屈折率の透明導電膜と低い光屈折率の該膜を用いた無反射コ-ティング層、光学干渉フィルタや反射器等の光学薄膜、並びにそれらを製造するために使用されるスパッタタ-ゲット材を提供することを目的とする。【構成】この目的は、光屈折率約2.4のZn2In2O5を主成分とする透明導電膜またはその混晶組成の該膜、光屈折率約1.6のInGaO3を主成分とする透明導電膜またはその混晶組成の該膜、あるいはまた光屈折率がいずれも約2.0のじゅうらいのZnO系、SnO2、あるいはIn2O3系該膜を積層して作製した無反射コ-ティング層、光学干渉フィルタや反射器等の光学薄膜、および粉末タ-ゲットもしくは焼結体タ-ゲットを用いて達成できる。

請求項（抜粋）：

【請求項 1】基体上に、光屈折率の異なる透明導電膜を積層して作製したことを特徴とする無反射コ-ティング膜、光学干渉フィルタあるいは反射器(ブラックリフレクタ)。【請求項 2】請求項1記載の透明導電膜が、光屈折率約2.4のZn2In2O5を主成分とする該膜、光屈折率約1.6のInGaO3を主成分とする該膜、あるいは光屈折率約2.0の従来のZnO系、SnO2系、In 2O3系を主成分とする該膜である請求項1記載の無反射コ-ティング膜、光学干渉フィルタあるいは反射器(ブラックリフレクタ)。【請求項 3】基体上に高い光屈折率を持つ透明導電膜と低い光屈折率の透明導電膜とを交互に多重積層して作製したことを特徴とする請求項1または2記載の無反射コ-ティング膜、光学干渉フィルタあるいは反射器(ブラックリフレクタ)。【請求項 4】前記請求項1または3記載の基体がガラスまたはプラスチックである請求項12、または3記載の無反射コ-ティング膜、光学干渉フィルタあるいは反射器(ブラックリフレクタ)。【請求項 5】前記請求項1,2,3または4の透明導電膜を製造するために使用されるスパッタリングタ-ゲット材。

IPC (3件)：

G02B 5/28 , G02B 1/11 , G02B 5/08

FI (3件)：

G02B 5/28 , G02B 5/08 A , G02B 1/10 A

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開昭61-168899
特開平1-273006
透明導電膜の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-334732 出願人：出光興産株式会社

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審査官引用 (8件)

特開昭61-168899
特開昭61-168899
特開平1-273006

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