特許

J-GLOBAL ID：200903089991609420

光磁気ディスクの製造方法

発明者： 石塚 賢一 ,  大村 直樹 ,  勝田 伸一 ,  川崎 順志
出願人/特許権者： 日本電気ホームエレクトロニクス株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-208113
公開番号（公開出願番号）：特開平6-076377
出願日： 1991年08月20日
公開日（公表日）： 1994年03月18日
要約：

【要約】【目的】 磁性膜の組成を変更することなく、光磁気ディスクの磁界感度および耐環境信頼性を向上することを目的とする。【構成】 光磁気ディスクの保護膜の表面をスパッタエッチング或いは紫外線照射した後に、この保護膜の表面に磁性膜を成膜する。【効果】 磁性膜の記録再生特性を保ったまま、光磁気ディスクの磁界感度及び耐環境信頼性を向上することができる。

請求項（抜粋）：

円盤状の基板に保護膜,次に磁性膜を成膜する光磁気ディスクの製造方法において、前記磁性膜の成膜前に予め前記保護膜の表面をスパッタエッチングすることを特徴とする光磁気ディスクの製造方法。

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭63-016439
  
• 光磁気記録媒体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-133098   出願人：日本電気株式会社
• 光磁気記録媒体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-164734   出願人：三井石油化学工業株式会社
• 光磁気ディスクの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-244303   出願人：ティーディーケイ株式会社