電気光学装置及びその作製方法並びに電子装置

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-166777
公開番号（公開出願番号）：特開2001-052873
出願日： 2000年06月02日
公開日（公表日）： 2001年02月23日
要約：

【要約】【課題】動作性能および信頼性の高いEL表示装置を提供する。【解決手段】画素電極(陽極)46、EL層47及び陰極48でなるEL素子203の下には第3パッシベーション膜45が設けられ、EL素子203で発生した熱を逃がす構造となっている。また、この第3パッシベーション膜45はEL素子203中のアルカリ金属がTFT側へ拡散するのを防ぎ、さらにTFT側から水分や酸素がEL素子203中へ侵入するのを防ぐ。さらに好ましくは、第4パッシベーション膜50にも放熱効果を持たせてEL素子203を放熱層で囲んだ状態とする。

請求項（抜粋）：

EL素子が、B(ホウ素)、C(炭素)、N(窒素)から選ばれた少なくとも一つの元素と、Al(アルミニウム)、Si(珪素)、P(リン)から選ばれた少なくとも一つの元素とを含む絶縁膜に接していることを特徴とする電気光学装置。

IPC (6件)：

H05B 33/22 , G09F 9/30 338 , G09F 9/30 365 , H01L 29/786 , H05B 33/14 , H05B 33/26

FI (7件)：

H05B 33/22 Z , G09F 9/30 338 , G09F 9/30 365 Z , H05B 33/14 A , H05B 33/26 Z , H01L 29/78 619 A , H01L 29/78 626 C

引用特許：

審査官引用 (8件)

アクティブマトリクス型表示装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-234921 出願人：セイコーエプソン株式会社
表示装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-092935 出願人：株式会社半導体エネルギー研究所
半導体表示装置補正システムおよび半導体表示装置の補正方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-156696 出願人：株式会社半導体エネルギー研究所

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