特許
J-GLOBAL ID:200903090192746552

周期性疵検出方法および装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中濱 泰光
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-049788
公開番号(公開出願番号):特開2005-241356
出願日: 2004年02月25日
公開日(公表日): 2005年09月08日
要約:
【課題】 周期性疵の検出能の高い疵検出方法を提供する。【解決手段】 搬送される帯状体の表面の画像を光学的に撮像する工程と、撮像した像に基づく出力と予め設定した疵検出の閾値とに基いて搬送される帯状体の表面の周期性疵候補を弁別する工程と、前記工程で弁別した周期性疵候補について帯状体長手方向位置を記憶装置に記憶する工程と、前記弁別する工程で周期性疵候補を弁別したときに、前記弁別した周期性疵候補より上流の所定区間内にある前記記憶装置に記憶されている周期性疵候補の中から、前記弁別する工程で弁別した周期性疵候補と前記記憶装置に記憶されている周期性疵候補との間隔が、予め設定したロール周期長の整数倍となるロール倍周期長に対して、予め設定した許容長さずれ範囲内にある周期性疵候補を再弁別する工程と、再弁別した周期性疵候補の出現率を求め、求めた出現率に基き、前記再弁した周期性疵候補が周期性疵であるか否かを判定する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
連続的に搬送される帯状体の表面に生ずる周期性疵を検出する方法において、 前記搬送される帯状体の表面の画像を継ぎ目なく光学的に撮像する撮像工程と、 前記撮像工程で撮像した像に基づく出力と予め設定した疵検出の閾値とに基いて搬送される帯状体の表面の周期性疵候補を弁別する弁別工程と、 前記弁別工程で弁別した周期性疵候補について帯状体長手方向位置を記憶装置に記憶する記憶工程と、 前記弁別工程で周期性疵候補を弁別したときに、前記弁別工程で弁別した周期性疵候補より上流の所定区間内にある前記記憶装置に記憶されている周期性疵候補の中から、前記弁別工程で弁別した周期性疵候補と前記記憶装置に記憶されている周期性疵候補との間隔が、予め設定したロール周期長の整数倍となるロール倍周期長に対して、予め設定した許容長さずれ範囲内にある周期性疵候補を弁別する再弁別工程と、 前記再弁別工程で弁別した周期性疵候補の出現率を求め、求めた出現率に基き、前記再弁別工程で弁別した周期性疵候補が周期性疵であるか否かを判定する周期性判定工程と、 を備えることを特徴とする周期性疵検出方法。
IPC (1件):
G01N21/892
FI (1件):
G01N21/892 B
Fターム (13件):
2G051AA37 ,  2G051AB02 ,  2G051AB07 ,  2G051BA10 ,  2G051CA04 ,  2G051CB05 ,  2G051DA06 ,  2G051EA11 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EA16 ,  2G051EB01 ,  2G051EB05
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (6件)
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