欠陥検査装置及び該装置を用いた半導体デバイス製造方法

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：社本一夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-033487
公開番号（公開出願番号）：特開2002-236907
出願日： 2001年02月09日
公開日（公表日）： 2002年08月23日
要約：

【要約】【課題】ウエハの画像データからマイクロ・チャネル・プレートの孔潰れ等による黒きずデータを削除する。【解決手段】欠陥検査装置において、まず、鏡面研磨面のウエハに電子ビームを照射して画像データを得、画像データ処理装置12の第1記憶部20の第1領域に記憶する。該画像データに欠陥抽出部40で欠陥検出アルゴリズムを適用して欠陥画素の抽出を行い、黒きず位置として第1記憶部20の第2領域に格納する。次に、検査すべき試料ウエハから画像データを取得し、第1記憶部20の第1記憶領域に格納する。そして、画素データ較正部30において、第1記憶部20から試料ウエハの画像データ及び黒きず位置データを読み出し、黒きず位置の画素に隣接する複数の画素の画像データの加算平均処理を行うことによって、黒きず位置の画素の階調を較正する。その後、較正された画像データに基づいて欠陥抽出部40で試料ウエハの欠陥検出を行い、結果を表示する。

請求項（抜粋）：

矩形又は楕円状の電子ビームを半導体デバイスの試料ウエハ上に照射し、該試料ウエハから放出される2次電子をマイクロ・チャネル・プレート(MCP)で増倍し、蛍光板に衝突させて光に変換し、該光をCCDカメラにより画像データとして検出し、該画像データから、試料ウエハの欠陥を抽出する欠陥検査装置において、試料ウエハの画像データ中の黒きず位置の1又は複数の画素の階調を、該画素に隣接する複数の画素の階調を用いて較正する較正手段を備えていることを特徴とする欠陥検査装置。

IPC (5件)：

G06T 1/00 305 , G01N 23/225 , G06T 5/00 100 , H01L 21/66 , H04N 7/18

FI (5件)：

G06T 1/00 305 A , G01N 23/225 , G06T 5/00 100 , H01L 21/66 J , H04N 7/18 B

Fターム (50件)：

2G001AA03 , 2G001BA07 , 2G001DA01 , 2G001DA09 , 2G001DA10 , 2G001FA01 , 2G001FA06 , 2G001GA04 , 2G001HA12 , 2G001HA13 , 2G001HA20 , 2G001JA13 , 2G001KA03 , 2G001LA11 , 2G001MA05 , 4M106AA01 , 4M106BA02 , 4M106CA38 , 4M106DB04 , 4M106DB05 , 4M106DB20 , 4M106DB30 , 4M106DJ04 , 4M106DJ21 , 5B057AA04 , 5B057BA11 , 5B057CA02 , 5B057CA08 , 5B057CA12 , 5B057CA16 , 5B057CB02 , 5B057CB08 , 5B057CB12 , 5B057CB16 , 5B057CC03 , 5B057CE11 , 5B057CH11 , 5B057DA02 , 5B057DA16 , 5B057DB02 , 5B057DB05 , 5B057DB09 , 5B057DC22 , 5B057DC32 , 5C054AA07 , 5C054CA00 , 5C054CC05 , 5C054FC04 , 5C054FC15 , 5C054HA03

引用特許：

審査官引用 (7件)

パターン検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-001178 出願人：株式会社ニコン
画像検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-001356 出願人：株式会社ニコン
電子カメラ
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-328475 出願人：コニカ株式会社

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