特許
J-GLOBAL ID：200903090326330013

欠陥検査装置及び検査方法

発明者：
奥田 浩人

奥田 浩人 について

, 
高木 裕治

高木 裕治 について

, 
本田 敏文

本田 敏文 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (1件)： 鈴木 市郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-302108
公開番号（公開出願番号）：特開2003-107022
出願日： 2001年09月28日
公開日（公表日）： 2003年04月09日
要約：
【要約】【課題】 X線スペクトルに基づいて欠陥部の組成分析の迅速化を図り、欠陥の発生原因の特定や欠陥の発生状況の把握を容易に的確に行う。【解決手段】 X線検出器を備えた電子線式自動欠陥検査装置において、プロセスQC用ウエーハ上に生じた異物のX線スペクトルと画像とを参照用データとして登録し、前記参照用データを照会してプロセスウエーハ上に生じた欠陥を分類する。また、X線スペクトルと検出画像とを併用することにより、(1)X線検出時の動作条件を最適化、例えば、自動収集した欠陥画像の分類結果に基づいてX線検出対象欠陥を選定し、(2)組成と外観との両方の特徴に基づく欠陥の分類を行う。
請求項（抜粋）：
検査対象物に電子線を照射する電子光学系と、検査対象物から生じる2次電子を検出し、電気信号に変換する2次電子検出器と、2次電子検出器が出力する電気信号をデジタル画像に変換する画像生成手段と、検査対象物から生じるX線を検出してX線スペクトルを作るエネルギー分散型X線分光器と、前記電子光学系における電子線の照射条件の設定をユーザに促す検出条件設定用ユーザインタフェースと、電子光学系における電子線の照射条件を設定する電子光学系制御手段とを備える欠陥検査装置において、前記2次電子検出器を介して取得した検出欠陥画像を解析して欠陥の画像特徴を算出する欠陥画像解析手段と、前記欠陥の画像特徴に対し、X線検出を行うか否かを定める規則の入力を行う欠陥選定規則入力用ユーザインタフェースと、前記欠陥画像解析手段が出力した画像の特徴と前記入力された欠陥選定規則とを照合し、欠陥選定規則を満足する欠陥に対しX線検出を指示する制御用コンピュータとを備えることを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (3件)：
G01N 23/225 ,  G06T 1/00 305 ,  H01L 21/66
FI (3件)：
G01N 23/225 ,  G06T 1/00 305 A ,  H01L 21/66 J
Fターム (45件)：
2G001AA03 ,  2G001BA05 ,  2G001BA07 ,  2G001BA30 ,  2G001CA01 ,  2G001CA03 ,  2G001CA10 ,  2G001DA01 ,  2G001EA03 ,  2G001FA01 ,  2G001FA06 ,  2G001GA01 ,  2G001GA06 ,  2G001JA13 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001PA07 ,  4M106AA01 ,  4M106BA02 ,  4M106BA20 ,  4M106CA27 ,  4M106CA41 ,  4M106CB21 ,  4M106DB05 ,  4M106DH24 ,  4M106DH25 ,  4M106DH33 ,  4M106DJ17 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ23 ,  4M106DJ27 ,  5B057AA03 ,  5B057BA03 ,  5B057BA26 ,  5B057DA03 ,  5B057DA12 ,  5B057DB02 ,  5B057DB05 ,  5B057DB09 ,  5B057DC04 ,  5B057DC23 ,  5B057DC33 ,  5B057DC36
引用特許：
審査官引用 (4件)
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