特許

J-GLOBAL ID：200903090417672324

高分子フィルム光導波路の製造方法

発明者： 川田 久美子 ,  松浦 徹 ,  小林 潤也 ,  疋田 真 ,  山本 二三男
出願人/特許権者： エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社
代理人 (2件)： 谷 義一 ,  阿部 和夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-355711
公開番号（公開出願番号）：特開2004-191414
出願日： 2002年12月06日
公開日（公表日）： 2004年07月08日
要約：

【課題】応力緩和のための後熱処理を行わずに光損失が小さい高分子フィルム光導波路を簡便に歩留まり良く製造する方法。【解決手段】仮基板上に高分子材料で構成される下部クラッド層を形成する工程と、該下部クラッド層の上に高分子材料で構成されるコア層を形成する工程と、前記仮基板を除去する工程とを含む高分子フィルム光導波路を製造する方法であって、前記仮基板が4×10-5/°C以上、1.2×10-4/°C以下の熱膨張係数を有することを特徴とする高分子フィルム光導波路の製造方法。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

仮基板上に高分子材料で構成される下部クラッド層を形成する工程と、該下部クラッド層の上に高分子材料で構成されるコア層を形成する工程と、前記仮基板を除去する工程とを含む高分子フィルム光導波路を製造する方法であって、前記仮基板が4×10-5/°C以上、1.2×10-4/°C以下の熱膨張係数を有することを特徴とする高分子フィルム光導波路の製造方法。

IPC (2件)：

G02B6/13 ,  G02B6/12

FI (2件)：

G02B6/12 M ,  G02B6/12 N

Fターム (8件)：

2H047KA04 ,  2H047PA02 ,  2H047PA22 ,  2H047PA24 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA36 ,  2H047TA42

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 高分子光導波路フィルムとその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-127414   出願人：日本電信電話株式会社
• 高分子フィルム光導波路及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-054376   出願人：日本電信電話株式会社
• 低複屈折ポリイミド膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-187652   出願人：日本電信電話株式会社
• 光配線フィルムの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-002775   出願人：凸版印刷株式会社
• 光部品用基板とその製造方法、および該基板の熱膨張率制御方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-171414   出願人：日本電信電話株式会社, エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社, 東レ・デュポン株式会社