特許
J-GLOBAL ID：200903090492382226

光走査装置および画像形成装置

発明者：
大杉 友哉

大杉 友哉 について

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板橋 彰久

板橋 彰久 について

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中島 智宏

中島 智宏 について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について


代理人 (1件)： 石橋 佳之夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-069931
公開番号（公開出願番号）：特開2004-279657
出願日： 2003年03月14日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：
【課題】カラー画像形成装置に利用される高さの低いマルチビーム方式であり、ポリゴンモータによる消費電力および発熱を低減することができる光走査装置を得る。【解決手段】複数の被走査面に対応した光ビームを射出する光源を備えた複数の光源手段307a,307b,307c,307dと、副走査方向に離隔して入射する各光ビーム3001,300b,300c,300dを一括して偏向走査する偏向手段306とを有する。光源手段から射出される各光ビームの副走査方向の間隔を狭くして偏向手段に入射させる光ビーム合成手段304を有する。光ビーム合成手段は、少なくとも1つの光ビームの光路外に配置されている。光ビーム合成手段は複数あり、少なくとも1つの光ビーム合成手段は2つの光ビームを合成するものでありかつ2つの反射面を有し、合成される2つの光ビームは、副走査方向の並びが、光ビーム合成手段を通ることによって入れ替わる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
複数の被走査面と、各被走査面に対応した光ビームを射出する光源をそれぞれ備えた複数の光源手段と、副走査方向に離隔して入射する各光ビームを一括して偏向走査する偏向手段とを有する光走査装置において、 複数の光源手段から射出される各光ビームの副走査方向の間隔を狭くして偏向手段に入射させる光ビーム合成手段を有することを特徴とする光走査装置。
IPC (4件)：
G02B26/10 ,  B41J2/44 ,  H04N1/036 ,  H04N1/113
FI (4件)：
G02B26/10 B ,  H04N1/036 Z ,  B41J3/00 D ,  H04N1/04 104A
Fターム (42件)：
2C362AA03 ,  2C362AA10 ,  2C362BA04 ,  2C362BA50 ,  2C362BA51 ,  2C362BA58 ,  2C362BA71 ,  2C362BA84 ,  2C362DA06 ,  2H045AA01 ,  2H045BA22 ,  2H045BA34 ,  2H045DA02 ,  2H045DA04 ,  5C051AA02 ,  5C051CA07 ,  5C051DA02 ,  5C051DB02 ,  5C051DB22 ,  5C051DB24 ,  5C051DB30 ,  5C051DC02 ,  5C051DC04 ,  5C051DC07 ,  5C051EA01 ,  5C051FA01 ,  5C072AA03 ,  5C072BA01 ,  5C072BA02 ,  5C072BA06 ,  5C072DA02 ,  5C072DA04 ,  5C072DA10 ,  5C072HA02 ,  5C072HA06 ,  5C072HA09 ,  5C072HA10 ,  5C072HA13 ,  5C072HB06 ,  5C072QA14 ,  5C072XA01 ,  5C072XA05
引用特許：
審査官引用 (12件)
  • レーザー走査装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-281341   出願人：ミノルタ株式会社
  • 特開平3-053123
  • 走査光学系
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-388364   出願人：ペンタックス株式会社
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