特許
J-GLOBAL ID：200903090606498254
レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-187831
公開番号（公開出願番号）：特開平8-029983
出願日： 1994年07月18日
公開日（公表日）： 1996年02月02日
要約：
【要約】【目的】 新規な感放射線性レジスト組成物を提供する。【構成】 樹脂結合剤と酸発生剤とを含有する放射線感応性組成物であって、樹脂結合剤が狭分散性の水素添加フェノール樹脂のヒドロキシル基の少なくとも一部の水素原子が酸不安定性基または酸不安定性基を含む基によって置換されている樹脂であることを特徴とするレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
樹脂結合剤と酸発生剤とを含有する放射線感応性組成物であって、樹脂結合剤が狭分散性の水素添加フェノール樹脂のヒドロキシル基の少なくとも一部の水素原子が酸不安定性基または酸不安定性基を含む基によって置換されている樹脂であることを特徴とするレジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/023 511
, H01L 21/027
