レジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西川繁明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-224720
公開番号（公開出願番号）：特開平6-051518
出願日： 1992年07月31日
公開日（公表日）： 1994年02月25日
要約：

【要約】【目的】感度、解像度、耐エッチング性、及び保存安定性などのレジスト特性が高度にバランスのとれたレジスト材料、特に、半導体素子の微細加工用ポジ型レジストとして好適なレジスト組成物を提供すること。【構成】 (A)アルカリ可溶性の水素添加フェノール樹脂の水酸基の少なくとも一部を酸不安定性基で置換した樹脂、及び(B)活性光線の照射により酸を生成可能な化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)アルカリ可溶性の水素添加フェノール樹脂の水酸基の少なくとも一部を酸不安定性基で置換した樹脂、及び(B)活性光線の照射により酸を生成可能な化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/022 , G03F 7/029 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (10件)

感放射線性樹脂組成物溶液
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-198742 出願人：日本合成ゴム株式会社
感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-134431 出願人：日本合成ゴム株式会社
フォトイメージアブル組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-107077 出願人：シツプリイ・カンパニイ・インコーポレイテツド

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