汚染地盤の原位置浄化方法

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出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：高橋敏忠 , 高橋敏邦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-172411
公開番号（公開出願番号）：特開2004-016859
出願日： 2002年06月13日
公開日（公表日）： 2004年01月22日
要約：

【課題】原位置で直接汚染地盤と生物浄化処理に必要な注入物質とを混合撹伴する。【解決手段】揮発性有機化合物や油などの環境汚染物質により汚染された地盤を浄化する地盤浄化方法において、ロッド(1)の先端に設けた高圧の流体を噴射するノズル(2)をロットを介して回転させ、このノズルをロットを介して上下することで地盤を切削するジェット工法を用い、切削した汚染地盤Tー1内でノズル(2)から生物浄化に必要な電子受容体もしくは電子供与体を長期間継続的に放出する化合物、各種栄養物質、分解微生物などを汚染地盤に注入し、原位置で直接汚染地盤と注入物質を混合撹伴する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

揮発性有機化合物や油などの環境汚染物質により汚染された地盤を浄化する地盤浄化方法において、ロッドの先端に設けたノズルをロッドを介してノズルより高圧の流体を噴射することで地盤を切削・混合するジェット工法を用い、切削した汚染地盤内でノズルから生物浄化に必要な電子受容体もしくは電子供与体を長期間持続して放出する化合物、各種栄養物質、分解微生物などを汚染地盤に注入し、原位置で直接汚染地盤と注入物質とを混合撹伴することを特徴とする汚染地盤の原位置浄化方法。

IPC (3件)：

B09C1/10 , C02F3/02 , C02F3/10

FI (3件)：

B09B3/00 E , C02F3/02 Z , C02F3/10 Z

Fターム (15件)：

4D003AA13 , 4D003BA07 , 4D003EA25 , 4D003FA04 , 4D004AA41 , 4D004AB05 , 4D004AC07 , 4D004CA04 , 4D004CA15 , 4D004CA19 , 4D004CA50 , 4D004CB13 , 4D004CC07 , 4D004CC08 , 4D004CC11

引用特許：

審査官引用 (6件)

土壌浄化方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-312259 出願人：国際航業株式会社
汚染土の浄化方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-017258 出願人：キヤノン株式会社
汚染環境浄化方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-102333 出願人：栗田工業株式会社

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