特許
J-GLOBAL ID：200903090692654158
窒素ガスの製造方法および製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-382650
公開番号（公開出願番号）：特開2004-174471
出願日： 2002年11月26日
公開日（公表日）： 2004年06月24日
要約：
【課題】PAS方式の場合、装置が大形となり、電磁弁等の装置のメンテナンスに難点があり、膜分離方式の場合、窒素純度は95〜99.9%程度となるため、高純度のニーズには適せず、深冷分離方式の場合、99.999%以上の高純度の窒素が得られるが、大規模な設備が必要であった。【解決手段】圧縮空気を加熱する第一熱交換器30と、圧縮空気より酸素を除去する中空糸膜式窒素ガス発生器40と、圧縮空気の酸素を吸収する酸素吸収装置70を、記載の順に圧縮空気が流れるように配設した。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
圧縮空気を加熱した後に、前記圧縮空気より酸素を除去する中空糸膜式窒素ガス発生器(40)と、前記圧縮空気より酸素を吸収する酸素吸収装置(70)を経由させたことを特徴とする窒素ガスの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (15件)：
4D006GA41
, 4D006KA67
, 4D006KA72
, 4D006KB12
, 4D006KB14
, 4D006MA01
, 4D006MC48
, 4D006PA02
, 4D006PB17
, 4D006PB62
, 4D020AA02
, 4D020BA04
, 4D020BA07
, 4D020BB01
, 4D020CA05
