特許
J-GLOBAL ID:200903091012637501
感放射線性塗布組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
長谷川 曉司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-154944
公開番号(公開出願番号):特開平9-005988
出願日: 1995年06月21日
公開日(公表日): 1997年01月10日
要約:
【要約】【目的】 塗布性が良好で、発泡が起こりにくい感放射線性塗布組成物を提供する。【構成】 ベース樹脂、感放射線化合物、及び溶媒を含有する感放射線性塗布組成物において、溶媒として下記一般式で表わされる化合物を含有する溶媒を用い、且つノニオン素含フッ素界面活性剤を含有することを特徴とする感放射線性塗布組成物。【化1】(式中、R1 、R2 及びR3 はハロゲン原子で置換されていても良いメチル基又はエチル基を表し、相互に同じでも異なっていても良い。R4 は水素原子、ハロゲン原子で置換されていても良いメチル基又はエチル基を表す。)
請求項(抜粋):
ベース樹脂、感放射線化合物、及び溶媒を含有する感放射線性塗布組成物において、溶媒として下記一般式で表わされる化合物を含有する溶媒を用い、且つノニオン系含フッ素界面活性剤を含有することを特徴とする感放射線性塗布組成物。【化1】(式中、R1 ,R2 及びR3 はハロゲン原子で置換されていても良いメチル基又はエチル基を表し、相互に同じでも異なっていても良い。R4 は水素原子、ハロゲン原子で置換されていても良いメチル基又はエチル基を表す。)
IPC (6件):
G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/004 504
, G03F 7/008
, G03F 7/022
, H01L 21/027
FI (6件):
G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/004 504
, G03F 7/008
, G03F 7/022
, H01L 21/30 502 R
引用特許:
審査官引用 (10件)
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レジスト塗布組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-059928
出願人:日本合成ゴム株式会社
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特開昭62-036657
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特開昭62-123444
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ポジ型レジスト溶液
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-072120
出願人:日本合成ゴム株式会社
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化学増幅型レジスト溶液
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-048634
出願人:日本合成ゴム株式会社
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ポジ型フォトレジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-277915
出願人:富士写真フイルム株式会社
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化学増幅型感放射線性樹脂組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-046672
出願人:日本合成ゴム株式会社
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ポジ型感放射線性樹脂組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-066322
出願人:富士写真フイルム株式会社
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特開昭62-036657
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特開昭62-123444
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