薄膜形成装置と薄膜形成方法、液晶装置の製造装置と液晶装置の製造方法と液晶装置、及び薄膜構造体の製造装置と薄膜構造体の製造方法と薄膜構造体、及び電子機器

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：上柳雅誉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-046294
公開番号（公開出願番号）：特開2003-245582
出願日： 2002年02月22日
公開日（公表日）： 2003年09月02日
要約：

【要約】【課題】液滴吐出ヘッドを採用することによって材料の無駄を抑え、しかも形成する膜全体の厚さを均一にすることができるようにした、薄膜形成装置と薄膜形成方法、液晶装置の製造装置と液晶装置の製造方法と液晶装置、及び薄膜構造体の製造装置と薄膜構造体の製造方法と薄膜構造体を提供する。【解決手段】溶剤中に膜材料が溶解又は分散させられてなる塗布液Lを基板SUB上に塗布して薄膜を形成する薄膜形成装置1である。基板SUB上に塗布液Lを吐出する液滴吐出ヘッド2を有する吐出機構と、液滴吐出ヘッド2と基板SUBとの位置を相対的に移動可能とする移動機構4と、吐出機構及び移動機構4の少なくとも一方を制御する制御部Cとを備えている。基板SUB上に塗布された塗布液の近傍に溶剤蒸気を供給する、溶剤蒸気供給機構5を有している。

請求項（抜粋）：

溶剤中に膜材料が溶解又は分散させられてなる塗布液を基板上に塗布して薄膜を形成する薄膜形成装置であって、前記基板上に前記塗布液を吐出する液滴吐出ヘッドを有する吐出機構と、該液滴吐出ヘッドと前記基板との位置を相対的に移動可能とする移動機構と、前記吐出機構及び前記移動機構の少なくとも一方を制御する制御部とを備え、前記基板上に塗布された塗布液の近傍に溶剤蒸気を供給する、溶剤蒸気供給機構を有したことを特徴とする薄膜形成装置。

IPC (6件)：

B05C 5/00 101 , B05C 9/12 , B05D 1/26 , B05D 3/10 , B41J 2/01 , G02F 1/1333 505

FI (6件)：

B05C 5/00 101 , B05C 9/12 , B05D 1/26 Z , B05D 3/10 H , G02F 1/1333 505 , B41J 3/04 101 Z

Fターム (29件)：

2C056FA03 , 2C056FA04 , 2C056FB01 , 2H090HC05 , 4D075AC08 , 4D075AC09 , 4D075AC73 , 4D075AC88 , 4D075AC93 , 4D075BB69Z , 4D075CA48 , 4D075DA06 , 4D075DB13 , 4D075DC24 , 4D075EA07 , 4D075EA10 , 4D075EB22 , 4F041AA02 , 4F041AA05 , 4F041AB02 , 4F041BA05 , 4F041BA13 , 4F041BA22 , 4F041BA56 , 4F042AA02 , 4F042AA10 , 4F042BA08 , 4F042BA25 , 4F042DC00

引用特許：

審査官引用 (8件)

塗布装置および塗布方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-137019 出願人：東京エレクトロン株式会社
特開昭63-069564
特開平3-214722

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