特許
J-GLOBAL ID：200903091091262500

投影露光装置

発明者：
徳島 忍

徳島 忍 について


出願人/特許権者：
株式会社目白プレシジョン

株式会社目白プレシジョン について


代理人 (1件)： 津国 肇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-122509
公開番号（公開出願番号）：特開2003-316014
出願日： 2002年04月24日
公開日（公表日）： 2003年11月06日
要約：
【要約】【課題】 パターンを被投影基板に的確に位置合わせをしてパターンを形成することができる安価で簡素な構成な投影露光装置を提供する。【解決手段】 パターン基板に設けられた第1基準マークと、被投影基板を支持する支持手段に設けられた第2基準マークとが、第1検出手段において所定の関係を満たすように、パターン基板と支持手段との位置を調整し、所定の関係を満たしたときにおける第2基準マークを第2検出手段によって検出する。
請求項（抜粋）：
投影すべきパターンが形成されたパターン基板を介して露光光を発して、前記露光光によって露光し得る被投影基板に前記パターンを照射する露光光照射手段と、前記露光光が発せられたときに、前記被投影基板上において前記パターンを結像せしめる投影レンズと、を含む投影露光装置であって、前記パターン基板に設けられた第1基準マークと、前記被投影基板を支持する支持手段に設けられた第2基準マークと、を検出し得る第1検出手段と、前記第1検出手段によって検出された前記第1基準マークの検出結果と、前記第1検出手段によって検出された前記第2基準マークの検出結果と、が所定の関係を満たすように前記パターン基板の位置と前記支持手段の位置とを調節し得る位置調節手段と、前記第1基準マークの検出結果と前記第2基準マークの検出結果とが前記所定の関係を満たす位置に、前記支持手段が前記位置調節手段によって位置付けられたときに、前記第2基準マークを検出できる第2検出手段と、を含むことを特徴とする投影露光装置。
IPC (5件)：
G03F 7/20 501 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027 ,  H05K 1/02 ,  H05K 3/00
FI (5件)：
G03F 7/20 501 ,  G03F 9/00 Z ,  H05K 1/02 R ,  H05K 3/00 H ,  H01L 21/30 525 D
Fターム (12件)：
2H097CA12 ,  2H097GB00 ,  2H097KA03 ,  2H097KA12 ,  2H097KA20 ,  2H097LA09 ,  5E338DD11 ,  5E338DD32 ,  5E338EE42 ,  5F046ED03 ,  5F046FA17 ,  5F046FC05
引用特許：
審査官引用 (4件)
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