強誘電体膜を用いた装置の製造方法及び装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高橋敬四郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-036314
公開番号（公開出願番号）：特開平11-233513
出願日： 1998年02月18日
公開日（公表日）： 1999年08月27日
要約：

【要約】【課題】強誘電体膜の劣化防止機能に優れた保護膜の作製方法及びその保護膜を用いた装置を提供する。【解決手段】主表面を有する下地基板の該主表面上に、強誘電体膜を形成する。高密度プラズマを用いた気相堆積により、強誘電体膜を覆うように、絶縁性の保護膜を堆積する。

請求項（抜粋）：

主表面を有する下地基板の該主表面上に、強誘電体膜を形成する工程と、高密度プラズマを用いた気相堆積により、前記強誘電体膜を覆うように、絶縁性の保護膜を堆積する工程とを有する強誘電体膜を用いた装置の製造方法。

IPC (9件)：

H01L 21/316 , H01L 27/04 , H01L 21/822 , H01L 27/10 451 , H01L 27/108 , H01L 21/8242 , H01L 21/8247 , H01L 29/788 , H01L 29/792

FI (5件)：

H01L 21/316 X , H01L 27/10 451 , H01L 27/04 C , H01L 27/10 651 , H01L 29/78 371

引用特許：

審査官引用 (4件)

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