特許
J-GLOBAL ID：200903091404144937

感光性組成物、該感光性組成物に用いられる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法

発明者：
和田 健二

和田 健二 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-266722
公開番号（公開出願番号）：特開2006-084530
出願日： 2004年09月14日
公開日（公表日）： 2006年03月30日
要約：
【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であり、露光ラチチュード、PEB温度依存性が改善された感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】特定構造の有機酸を発生する化合物を含有する感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)活性光線又は放射線の照射により下記一般式(I)で表される有機酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (7件)：
G03F 7/004 ,  C07C 25/02 ,  C07C 311/03 ,  C07C 381/12 ,  C07D 211/96 ,  C07D 215/58 ,  C07D 295/22
FI (7件)：
G03F7/004 503A ,  C07C25/02 ,  C07C311/03 ,  C07C381/12 ,  C07D211/96 ,  C07D215/58 ,  C07D295/22 Z
Fターム (21件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB03 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  4C031QA01 ,  4C054AA02 ,  4C054CC08 ,  4C054DD01 ,  4C054EE01 ,  4C054FF01 ,  4C054FF04 ,  4H006AA01 ,  4H006EA21
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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