イオンビームによる表面改質方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：村上太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-092499
公開番号（公開出願番号）：特開2006-272076
出願日： 2005年03月28日
公開日（公表日）： 2006年10月12日
要約：

【課題】金属、半導体、絶縁物および有機物等の固体表面にクラスターイオンビームを照射し、該固体の表面に超親水性を付与する表面改質を行い、該固体表面でのアパタイト等のバイオ材料や有機材料の成長を促進することができるようにする。【解決手段】所定の加速電圧で加速された水クラスターイオンビーム、若しくは、酸素クラスターイオンビーム及びモノマーイオンビームを固体表面に照射することによって、該表面に接触角15°以下の超親水性を付与する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

所定の加速電圧で加速された水クラスターイオンビームを固体表面に照射することによって、該表面に接触角10°以下の超親水性を付与することを特徴とするイオンビームによる表面改質方法。

IPC (3件)：

B01J 19/12 , H01J 37/317 , H01L 21/304

FI (3件)：

B01J19/12 C , H01J37/317 Z , H01L21/304 645Z

Fターム (13件)：

4G075AA30 , 4G075BA05 , 4G075BC10 , 4G075CA39 , 4G075CA62 , 4G075DA02 , 4G075DA18 , 4G075EB01 , 4G075EC01 , 5C034CC01 , 5C034CC02 , 5C034CC16 , 5C034CC19

引用特許：

出願人引用 (1件)

液体多原子イオンビーム発生装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-110279 出願人：株式会社エイコー・エンジニアリング

審査官引用 (5件)

湿潤性向上のための高分子表面改質方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-584977 出願人：エルジー・ケミカル・リミテッド
特開平3-163825
特開平3-163825

全件表示

前のページに戻る