特許
J-GLOBAL ID:200903028622822048
湿潤性向上のための高分子表面改質方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
朝日奈 宗太 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-584977
公開番号(公開出願番号):特表2002-531588
出願日: 1999年05月15日
公開日(公表日): 2002年09月24日
要約:
【要約】本発明は高分子表面の改質方法に係り、とくに高分子または高分子膜表面を改質して親水性を付与したりまたは疎水性を増加させる方法に関する。本発明は真空条件下でエネルギーを有するイオン粒子を高分子膜の表面に照射して高分子膜表面を改質する方法である。本発明は、a)真空チャンバ内に高分子膜を挿入し、高真空下でエネルギーを有するイオン粒子をイオンビームによって高分子膜表面に照射して活性化した表面を含む高分子膜を製造する段階と、b)前記a)段階のエネルギーを有するイオン粒子の照射後、真空チャンバ内に反応性ガスを注入して前記a)段階の活性化した表面を含む高分子膜の表面を反応性ガスで処理した高分子膜を製造する段階とを含む方法を提供する。
請求項(抜粋):
真空条件下でエネルギーを有するイオン粒子を高分子膜の表面に照射する段階を含む高分子膜の表面改質方法。
IPC (9件):
C08J 7/00 306
, C08J 7/00 CES
, B01D 39/16
, B01D 69/12
, B01D 71/26
, B01J 3/00
, B01J 19/12
, H01M 2/16
, C08L 23:00
FI (10件):
C08J 7/00 306
, C08J 7/00 CES
, B01D 39/16 C
, B01D 69/12
, B01D 71/26
, B01J 3/00 J
, B01J 19/12 F
, H01M 2/16 P
, H01M 2/16 Z
, C08L 23:00
Fターム (64件):
4D006GA14
, 4D006JA02C
, 4D006MA08
, 4D006MB01
, 4D006MB09
, 4D006MB10
, 4D006MB13
, 4D006MC22
, 4D006MC23X
, 4D006NA03
, 4D006NA05
, 4D006NA33
, 4D006NA42
, 4D006NA59
, 4D006NA60
, 4D006NA66
, 4D006NA67
, 4D006PA01
, 4D006PA02
, 4D006PB12
, 4D006PB13
, 4D006PC01
, 4D006PC11
, 4D006PC41
, 4D006PC71
, 4D019AA03
, 4D019BA13
, 4D019BB08
, 4D019BC13
, 4D019BD01
, 4D019CB04
, 4D019CB06
, 4F073AA01
, 4F073BA07
, 4F073BA08
, 4F073BB01
, 4F073CA51
, 4F073HA03
, 4G075AA24
, 4G075AA30
, 4G075AA62
, 4G075BA05
, 4G075CA39
, 4G075CA62
, 4G075CA63
, 4G075CA65
, 4G075DA13
, 4G075DA18
, 4G075EB01
, 4G075EB31
, 4G075FC02
, 4G075FC20
, 5H021BB05
, 5H021BB13
, 5H021BB15
, 5H021CC02
, 5H021CC04
, 5H021EE00
, 5H021EE04
, 5H021EE35
, 5H021EE37
, 5H021HH00
, 5H021HH06
, 5H021HH10
引用特許:
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