特許

J-GLOBAL ID：200903091564359883

超純水製造装置

発明者： 林 一樹 ,  小泉 求
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-010433
公開番号（公開出願番号）：特開2002-210494
出願日： 2001年01月18日
公開日（公表日）： 2002年07月30日
要約：

【要約】【課題】 DO、TOC、H2O2等の酸化性物質濃度が著しく低い高純度超純水を製造する。【解決手段】 185nm付近の波長を有する紫外線を照射する紫外線酸化装置13と、触媒式酸化性物質分解装置14と、脱気装置15と、混床式イオン交換装置16と、微粒子分離膜装置17とを有し、この順に通水可能とした超純水製造装置。

請求項（抜粋）：

185nm付近の波長を有する紫外線を照射する紫外線酸化装置と、触媒式酸化性物質分解装置と、脱気装置と、混床式イオン交換装置と、微粒子分離膜装置とを有し、この順に通水可能とした超純水製造装置。

IPC (10件)：

C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 504 ,  B01D 19/00 ,  C02F 1/20 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/44 ,  C02F 1/72 101

FI (14件)：

C02F 9/00 503 B ,  C02F 9/00 502 G ,  C02F 9/00 502 J ,  C02F 9/00 502 N ,  C02F 9/00 502 R ,  C02F 9/00 502 Z ,  C02F 9/00 504 B ,  C02F 9/00 504 E ,  B01D 19/00 H ,  C02F 1/20 A ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/42 A ,  C02F 1/44 J ,  C02F 1/72 101

Fターム (40件)：

4D006GA06 ,  4D006GA41 ,  4D006KA01 ,  4D006KB04 ,  4D006KB11 ,  4D006KB12 ,  4D006KB17 ,  4D006MC22 ,  4D006MC30 ,  4D006MC53 ,  4D006MC65 ,  4D006PB06 ,  4D006PB62 ,  4D006PB63 ,  4D006PB65 ,  4D006PC02 ,  4D011AA17 ,  4D025AA04 ,  4D025BA08 ,  4D025BA13 ,  4D025BA22 ,  4D025BB04 ,  4D025DA01 ,  4D025DA03 ,  4D025DA04 ,  4D025DA10 ,  4D037AA03 ,  4D037BA18 ,  4D037BA23 ,  4D037CA01 ,  4D037CA03 ,  4D037CA11 ,  4D037CA15 ,  4D050AA05 ,  4D050BC09 ,  4D050BD06 ,  4D050CA03 ,  4D050CA06 ,  4D050CA08 ,  4D050CA09

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 純水又は超純水の精製方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-140593   出願人：株式会社荏原総合研究所, 株式会社荏原製作所, 荏原インフィルコ株式会社
• 特開平2-017994
  
• 超純水製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-254323   出願人：オルガノ株式会社
• 純水製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-304622   出願人：栗田工業株式会社